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电铸模具的制作工艺 被引量:1
1
作者 李健心 《机械制造》 北大核心 2001年第3期13-14,共2页
介绍了电铸成形原理及工艺过程,并阐述了电铸工艺在模具制造中的应用和新发展。
关键词 电铸模具 制作工艺 电铸成形
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电铸模具镍镀层的结构和内应力σi的X射线衍射研究
2
作者 张玉梅 赵祖欣 《辽宁冶金》 1989年第5期64-67,共4页
关键词 电铸模具 镍镀层 X射线衍射
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快速模具成形中孔(槽)电铸工艺研究
3
作者 邓瑶瑶 徐弘 +2 位作者 朱小东 李国兵 帅大平 《现代商贸工业》 2010年第12期310-311,共2页
电铸法快速制造模具工艺中,对孔(槽)结构的电铸进行了初步的实验研究,总结了金属在孔中沉积的规律,首次提出孔(槽)可电铸径深比的有效范围,探讨了深孔电铸中质量问题的解决方案。
关键词 电铸模具 深孔电铸 实验模型
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快速模具成形中的孔(槽)电铸研究
4
作者 邓瑶瑶 徐弘 +1 位作者 朱小东 帅大平 《模具工程》 2010年第9期93-96,共4页
电铸法快速制造模具工艺中,对孔(槽)结构的电铸进行了初步的实验研究.总结了金属在孔中沉积的规律,首次提出孔(槽)可电铸径深比的有效范围.探讨了深孔电铸中质量问题的解决方案。
关键词 电铸模具 深孔电铸 实验模型
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基于电化学沉积的高深宽比无源MEMS惯性开关的研制 被引量:4
5
作者 杜立群 陶友胜 +1 位作者 李爰琪 齐磊杰 《航空制造技术》 2017年第14期24-29,共6页
基于电化学沉积技术在金属基底上制作了一种新型的无源MEMS惯性开关。针对高深宽比、细线宽微电铸用光刻胶模具制作过程中,由于SU-8胶膜严重侧蚀导致的胶膜制作困难、质量低下的问题,进行了紫外光刻试验研究。试验研究了不同曝光剂量和... 基于电化学沉积技术在金属基底上制作了一种新型的无源MEMS惯性开关。针对高深宽比、细线宽微电铸用光刻胶模具制作过程中,由于SU-8胶膜严重侧蚀导致的胶膜制作困难、质量低下的问题,进行了紫外光刻试验研究。试验研究了不同曝光剂量和后烘时间对SU-8胶光刻效果的影响,优化了光刻工艺参数。采用降低曝光剂量和延长后烘时间相结合的方法解决了高深宽比、细线宽SU-8胶膜制作困难的问题,制作出高质量的微电铸用光刻胶模具。最后,在上述试验结果基础上制作了一种高深宽比、无源MEMS惯性开关。其外形尺寸为3935μm×3935μm×234μm,其中最细线宽12μm,单层最大深宽比达10∶1,多层最大深宽比达20∶1。 展开更多
关键词 电化学沉积 电铸模具 高深宽比 紫外光刻
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An Alternative Method for SU-8 Removal Using PDMS Technique
6
作者 李建华 陈迪 +2 位作者 张金娅 刘景全 朱军 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期899-903,共5页
An alternative method for SU-8 removal is proposed.Instead of directly using SU-8 microstructure as the electroplating mold,a polydimethysiloxane (PDMS) replica is employed.The metallic micromold insert obtained throu... An alternative method for SU-8 removal is proposed.Instead of directly using SU-8 microstructure as the electroplating mold,a polydimethysiloxane (PDMS) replica is employed.The metallic micromold insert obtained through this method can be easily peeled off from the PDMS replica,meanwhile with high resolution and smooth surfaces. 展开更多
关键词 SU-8 removal ELECTROPLATING PDMS micromold insert high-aspect-ratio microstructures
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