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Ni电极MLCC电镀后端头锡层延伸问题研究分析
被引量:
1
1
作者
曾雨
王海洋
《电子工艺技术》
2016年第4期196-197,204,共3页
随着Ni电极MLCC的不断发展,客户对MLCC芯片端头锡层延伸问题提出了新的要求。为了解决Ni电极MLCC在表面处理后出现的端头锡层延伸问题,研究了镀锡工艺中的电流及时间、电镀媒介装载比例以及电镀液成分对电镀后锡层延伸问题的影响。结果...
随着Ni电极MLCC的不断发展,客户对MLCC芯片端头锡层延伸问题提出了新的要求。为了解决Ni电极MLCC在表面处理后出现的端头锡层延伸问题,研究了镀锡工艺中的电流及时间、电镀媒介装载比例以及电镀液成分对电镀后锡层延伸问题的影响。结果表明,选取合适的镀锡工艺曲线及电镀媒介装载比例,匹配相应的电镀液成分,可有效解决电镀后MLCC端头锡层延伸问题,获得到了客户的使用认证。
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关键词
Ni电极
MLCC
锡层
延伸
镀锡工艺
电镀媒介
电镀
液
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职称材料
题名
Ni电极MLCC电镀后端头锡层延伸问题研究分析
被引量:
1
1
作者
曾雨
王海洋
机构
广东风华高新科技股份有限公司新型电子元器件关键材料与工艺国家重点实验室
出处
《电子工艺技术》
2016年第4期196-197,204,共3页
基金
国家国际科技合作项目(项目编号:2010DFB33920)
文摘
随着Ni电极MLCC的不断发展,客户对MLCC芯片端头锡层延伸问题提出了新的要求。为了解决Ni电极MLCC在表面处理后出现的端头锡层延伸问题,研究了镀锡工艺中的电流及时间、电镀媒介装载比例以及电镀液成分对电镀后锡层延伸问题的影响。结果表明,选取合适的镀锡工艺曲线及电镀媒介装载比例,匹配相应的电镀液成分,可有效解决电镀后MLCC端头锡层延伸问题,获得到了客户的使用认证。
关键词
Ni电极
MLCC
锡层
延伸
镀锡工艺
电镀媒介
电镀
液
Keywords
Ni electrodes
MLCC
tin layer
extension
tin plating process
medium of electroplating
plating solution
分类号
TN60 [电子电信—电路与系统]
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题名
作者
出处
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被引量
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1
Ni电极MLCC电镀后端头锡层延伸问题研究分析
曾雨
王海洋
《电子工艺技术》
2016
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