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GaN单晶衬底上同质外延界面杂质的研究
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作者 邵凯恒 夏嵩渊 +2 位作者 张育民 王建峰 徐科 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2021年第3期441-446,共6页
氮化镓单晶衬底上的同质外延具有显著的优势,但是二次生长界面上的杂质聚集一直是困扰同质外延广泛应用的难题,特别是对电子器件会带来沟道效应,对激光器应用会影响谐振腔中的光场分布。本文通过金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)生长... 氮化镓单晶衬底上的同质外延具有显著的优势,但是二次生长界面上的杂质聚集一直是困扰同质外延广泛应用的难题,特别是对电子器件会带来沟道效应,对激光器应用会影响谐振腔中的光场分布。本文通过金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)生长的原位处理,实现了界面杂质聚集的有效抑制。研究发现,界面上的主要杂质是C、H、O和Si,其中C、H、O可以通过原位热清洗去除;界面Si聚集的问题主要是由衬底外延片保存过程中暴露空气带来的,其次是氮化镓衬底中Si背底浓度,在外延过程中,生长载气对氮化镓单晶衬底不稳定的N面造成刻蚀,释放的杂质元素会对二次生长界面产生影响,本文较系统地阐明了界面杂质的形成机制,并提出了解决方案。 展开更多
关键词 氮化镓衬底 二次生长界面 界面杂质 杂质来源 同质外延 Si聚集
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晶体界面杂质态中的有效势
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作者 张鹏 梁小改 《内蒙古民族师院学报(自然科学版)》 1991年第2期31-38,共8页
关键词 晶体 界面杂质 有效势
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Degradation of Lix984N and its effect on interfacial emulsion 被引量:2
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作者 刘晓荣 邱冠周 胡岳华 《Journal of Central South University of Technology》 EI 2006年第6期668-672,共5页
The organic phase separated from the interfacial crud provided by Dexing copper mine in Jiangxi, China, was analyzed by combined gas chromatography-mass spectroscopy. The results show that many kinds of emphiphiles co... The organic phase separated from the interfacial crud provided by Dexing copper mine in Jiangxi, China, was analyzed by combined gas chromatography-mass spectroscopy. The results show that many kinds of emphiphiles containing such hydrophilic groups as carbonyl, carboxyl, sulphonyl or acylamine exist in organic phase. Conclusively, Lix984N would degrade gradually during a long-term contact with the acidic aqueous feed and strip reagents. Lix84 and nonylphenol as effective components of Lix984N degraded almost completely after long-term recycling. Lix984N degraded through such reactions as Beck.mann rearrange, hydrolysis and sulphofication. The degradation of Lix984N would deteriorate solvent extraction and disengagement performance, and result in a more stable interracial emulsion. 展开更多
关键词 interfacial emulsion DEGRADATION Lix984N copper solvent extraction
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