复合栅控二极管新技术提取热载流子诱生的NMOS/SOI器件界面陷阱的横向分布

提出了用复合栅控二极管新技术提取 MOS/ SOI器件界面陷阱沿沟道横向分布的原理 ,给出了具体的测试步骤和方法 .在此基础上 ,对具有体接触的 NMOS/ SOI器件进行了具体的测试和分析 ,给出了不同的累积应力时间下的界面陷阱沿沟道方向的横向分布 .结果表明 :随累积应力时间的增加 ,不仅漏端边界的界面陷阱峰值上升 ,而且沿沟道方向 。