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结构片断法计算离子型表面活性剂的HLB值
被引量:
5
1
作者
杨运泉
李远喜
+1 位作者
童刚生
李国龙
《精细化工》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第5期449-453,共5页
运用结构片断法计算离子型表面活性剂的疏水值logP,并将疏水值概念引入Davies基团贡献法以代替该模型中亲油基的基团数,从而建立了计算离子型表面活性剂HLB值的新模型为:HLB=7+∑亲水基基团数-∑疏水基logP。通过与文献列举的17个不同...
运用结构片断法计算离子型表面活性剂的疏水值logP,并将疏水值概念引入Davies基团贡献法以代替该模型中亲油基的基团数,从而建立了计算离子型表面活性剂HLB值的新模型为:HLB=7+∑亲水基基团数-∑疏水基logP。通过与文献列举的17个不同系列离子型表面活性剂的HLB值对照表明,该新模型的计算值与文献值的平均相对偏差为1.68%。采用非线性方法拟合了烷基硫酸钠,烷基磺酸钠和烷基三甲基溴化铵3类典型离子型表面活性剂的CMC和HLB的关系,并得到了其关联方程,拟合结果表明,由新模型得到的关联方程其复相关系数R2>0.988。
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关键词
离子型表面活性剂
HLB
值
CMC
结构片断法
疏水值logp
基团贡献法
下载PDF
职称材料
题名
结构片断法计算离子型表面活性剂的HLB值
被引量:
5
1
作者
杨运泉
李远喜
童刚生
李国龙
机构
湘潭大学化工学院
出处
《精细化工》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第5期449-453,共5页
基金
湖南省教育厅基金项目(03C459)~~
文摘
运用结构片断法计算离子型表面活性剂的疏水值logP,并将疏水值概念引入Davies基团贡献法以代替该模型中亲油基的基团数,从而建立了计算离子型表面活性剂HLB值的新模型为:HLB=7+∑亲水基基团数-∑疏水基logP。通过与文献列举的17个不同系列离子型表面活性剂的HLB值对照表明,该新模型的计算值与文献值的平均相对偏差为1.68%。采用非线性方法拟合了烷基硫酸钠,烷基磺酸钠和烷基三甲基溴化铵3类典型离子型表面活性剂的CMC和HLB的关系,并得到了其关联方程,拟合结果表明,由新模型得到的关联方程其复相关系数R2>0.988。
关键词
离子型表面活性剂
HLB
值
CMC
结构片断法
疏水值logp
基团贡献法
Keywords
ion-surfactant
hydrophile-lipophile balance ( HLB )
critical micelle concentration ( CMC )
configuration-fragment method
hydrophobe value(
logp
)
group contribution method
分类号
O647 [理学—物理化学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
结构片断法计算离子型表面活性剂的HLB值
杨运泉
李远喜
童刚生
李国龙
《精细化工》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
5
下载PDF
职称材料
已选择
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参考文献
引证文献
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