非均质底水油藏水平井ICD完井耦合模型与目标剖面计算方法

入流控制装置(Inflow Control Device,ICD)近年来在水平井分段完井中应用日益广泛,但目前针对ICD完井建立的半解析耦合模型无法准确反映水平井端部效应,在ICD优化设计过程中对于目标入流剖面的选择缺乏依据。为此,首先引入了基于势的叠加原理和镜像反射原理的油藏渗流模型用以准确反映水平井入流特征,建立了适用于非均质底水油藏水平井ICD完井的稳态耦合模型;之后考虑油井不同的生产制度,给出了非均质油藏水平井ICD完井优化目标入流剖面的确定方法,并以喷嘴型ICD为例对ICD设计流程进行了具体描述,对最优非均匀ICD和最优均匀ICD计算结果进行了对比分析。结果表明:ICD优化设计与生产制度有很大关系,均匀入流剖面并非总是理想的入流剖面;非均匀ICD控流效果要优于均匀ICD,但均匀ICD完井对井底流压有较宽的适应性;高生产压差有助于发挥喷嘴型ICD的控流优势。

混合实验仪(Mixolab)评价筛选优质饺子粉

利用混合实验仪对优质饺子粉进行评价筛选研究,旨在为达成饺子专用粉高效在线配粉提供理论支撑。本研究以市场上现有的30种饺子粉为研究对象,通过分析面粉的白度、湿面筋含量、流变学特性、糊化特性等理化指标和饺子皮感官评分,比较不同饺子粉品质差异性,运用聚类分析将上述面粉进行等级分类。结合混合实验仪软件的内置功能Chopin+标准协议对优类饺子粉进行测定并制作目标剖面图。利用该剖面图实现了郑麦136、郑麦366和新麦26等3种基础粉的饺子皮配粉应用。结果表明,30种饺子粉品质性状的变异系数大小依次为:形成时间>稳定时间>粉质质量指数>弱化度>面筋指数>衰减值>最低粘度>峰值粘度>湿面筋含量>糊化温度>吸水率>白度>峰值时间>感官评分,其中形成时间的变异系数最大,为68.59,感官评分变异系数最小,为0.11。在欧式距离5处可将30种饺子粉分为三大类群。其中,第二类有16个样品,其稳定时间、峰值粘度、最终粘度和感官评分均为三类中最佳,将其归为优质饺子粉。所得到的优质饺子粉目标剖面图的吸水率指数范围在8~9,混合指数范围为5~7,面筋+指数范围在5~6,粘度指数范围为5~7,淀粉酶指数范围为7~8,回生指数范围在7~8。利用混合试验仪对3种基础粉和10种不同比例的混合粉进行测定,从6个指数综合分析发现混合粉7:2:1、6:3:1、6:2:2、5:4:1均落在优质饺子粉目标剖面图的范围内,说明该4种混合粉适合饺子加工,考虑优麦成本,可选取7:2:1作为最优配比。该研究可为企业生产高质量的饺子专用粉和面粉品质控制提供理论参考。

薏米-小麦混合粉面团流变特性分析及其面条加工品质预测

以高筋小麦粉为主原料,按照高筋小麦粉量的0%、5%,10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%添加薏米粉,形成薏米—小麦混合粉,对混合粉面团进行流变学测定和损伤淀粉测定,探讨添加薏米粉对面团流变学特性的影响;同时利用Mixolab的数据库软件建立机械鲜面条用小麦粉的目标剖面图,预测混合粉的面条加工特性。研究结果:添加薏米粉后,混合粉面团流变学特性呈规律性变化。随着薏米粉添加量的增加,面团韧性增加,延展性降低,吸水量下降,弱化谷值C2值下降,起始糊化温度升高,糊化粘度、回生终点粘度和回生值降低。根据建立的机械鲜面条用小麦粉目标剖面图,薏米粉添加量不超过10%时,对面条品质无显著影响,这与市面上薏米面条产品中常用的添加量相一致;薏米粉添加量在15%~25%时,个别指标会略有不足,可以选择更高筋力的小麦粉或选用合适的食品添加剂进行改良。

用Mixolab分析马铃薯生全粉的流变学特性

采用Mixolab通过对热-机械性能的分析研究了马铃薯生全粉的流变学特性。以11个马铃薯生全粉为实验材料,探讨Mixolab检测马铃薯生全粉流变学特性的重复性,结果显示:各样品的2次测试曲线的重合度高,全曲线的平均变异系数小于5%;通过对比B01~B10这10个不同样品检测结果,可以看到不同马铃薯栽培品种流变学特性存在较大的差异,具体表现在面团形成、面团稳定、淀粉糊化和回生各阶段检测指标上的差异;通过对比B06和B10两个采用不同研磨方式制备的样品,发现不同马铃薯生全粉制作的研磨工艺将极大的影响样品的吸水率、各粘度指标,但对马铃薯生全粉面团的弱化后稠度(Cs和C2)影响不大;通过对比马铃薯生全粉、雪花粉和标准面粉的热-机械能能曲线,发现雪花粉在马铃薯主食化产品开发中所起到的作用主要为填充剂。马铃薯生全粉具有良好的加工性能,流变学特性还可以通过食品添加剂进一步改善,制造出无需添加小麦面粉的纯马铃薯主食化产品馒头、面条和面包是可能的。

新颖CMOS图像传感器刻蚀工艺进展

称为背照式(BSI)CIS的新颖CIS比传统的前照明(FI)CIS对光更敏感,且噪声小。BSI刻蚀中的关键参数是侧壁剖面角、微沟槽形成和硅损宏观负载效应。本文中,采用Applied CenturaAdvantEdgeTM MesaTM刻蚀室开发BSI CSI刻蚀工艺。调整C4F8流量可实现侧壁角的目标剖面。调整压力使BSI焊盘底部处微沟槽形成最小。对于硅损的宏观负载,DC(Div.Cap)和MRAD(Motorized Radial Assembly Dial)调整能实现最小的硅损失,有良好的均匀性。