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题名材料形貌对碲镉汞红外焦平面器件性能的影响
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作者
陈书真
祁娇娇
王丹
程杰
高华
何斌
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机构
华北光电技术研究所
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出处
《红外技术》
CSCD
北大核心
2022年第10期1033-1040,共8页
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文摘
碲镉汞材料表面的粗糙度对钝化膜层的质量、接触孔的光刻与刻蚀都有着显著的影响,研究其表面的粗糙度对器件性能的影响具有重要意义。在本文中,我们分别研究了碲镉汞的小平面形貌和台阶形貌对器件性能的影响,以及不同表面粗糙度的碲镉汞材料对器件制备工艺和最终性能的影响。研究表明,随着材料表面粗糙度的增加,钝化层的质量下降,接触孔的均匀性下降,且接触孔的形貌变差,I-V性能下降,最终导致器件的响应非均匀性增加,盲元数增加。
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关键词
碲镉汞
生长台阶
粗糙度
盲元率
零偏阻抗
响应非均匀性
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Keywords
mercury cadmium telluride
growth step
roughness
blind pixel rate
zero bias impedance
response non-uniformity
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分类号
TN213
[电子电信—物理电子学]
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