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光纤端面宽带减反射膜制备 被引量:2
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作者 高婷 曲轶 +1 位作者 郑晓刚 李再金 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第4期687-691,共5页
为了提高高功率半导体激光器光纤耦合系统中光纤的透过率以及耦合效率,通过高精密研磨抛光技术处理光纤端面,选取高激光损伤阈值薄膜材料,优化膜系结构,采用直接光控技术和离子辅助沉积法,成功地在光纤芯直径为100um的多模光纤(MM... 为了提高高功率半导体激光器光纤耦合系统中光纤的透过率以及耦合效率,通过高精密研磨抛光技术处理光纤端面,选取高激光损伤阈值薄膜材料,优化膜系结构,采用直接光控技术和离子辅助沉积法,成功地在光纤芯直径为100um的多模光纤(MMF)端面上镀制了宽带减反射膜。测试结果表明,在900-1100nm波段光纤双端面光损耗降低6%,总透射率达到99.2%,有效提高了光纤耦合系统中光纤耦合效率。 展开更多
关键词 半导体激光器 光纤端面 增透膜 直接光控技术
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