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“四低一高”工艺在85kA预焙槽的应用与优化
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作者 王会全 李政伟 《世界有色金属》 2003年第10期35-37,共3页
本文介绍了“四低一高”(低电解温度、低分子比、低氧化铝浓度、低阳极效应系数、高工作电压)工艺技术条件在85kA预焙槽上的应用与优化,实验证明“四低一高”工艺需要针对具体槽型进行优化设计,适宜的技术条件对提高电流效率、降低直流... 本文介绍了“四低一高”(低电解温度、低分子比、低氧化铝浓度、低阳极效应系数、高工作电压)工艺技术条件在85kA预焙槽上的应用与优化,实验证明“四低一高”工艺需要针对具体槽型进行优化设计,适宜的技术条件对提高电流效率、降低直流电耗,节能效果显著。 展开更多
关键词 预焙槽 工艺技术条件 电流效率 直接电耗 铝电解槽 “四低一高”工艺
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