基于降温法的直接重写磁光记录薄膜居里温度的快速测量

在测量单层或多层磁光记录薄膜的居里温度时 ,为了达到有目的测量和提高测量的效率 ,采用了在快速升温过程中 (<5min) ,在感兴趣的温度范围里观察被测薄膜 Ms～ T曲线变化的全过程 ;然后 ,初步判断薄膜的居里温度可能在哪个温度区域里 ,决定是否需要精确测量 ;最后 ,若决定测量 ,选择居里温度附近的一段温度区域里利用降温过程测量。整个测量过程比采用逐步升温、并在每个恒定的温度上读取饱和磁化强度 Ms的方法节省大量的时间。只要选择一类响应时间快的热电偶 ,可以达到与逐步升温方法同样的测量精度。

针对玻璃基片石英试杆影响的磁光薄膜磁性参数的估算方法

对于直接重写磁光记录薄膜的磁性测量,实际测得的磁滞回线是磁光薄膜与玻璃基片和石英试杆共同作用的结果,不能由此图直接确定基本的磁性参数。根据磁光薄膜的曲线和玻璃基片与石英试杆的曲线之间的特点,提出一种简单有效的方法快速直接确定基本的磁性参数。

M-H回线可变时间常数的测量方法

针对光调制直接重写磁光薄膜磁滞回线的测量 ,提出一种简单的自动变积分时间常数的测量方法 ,既能有效地抑制噪声 ,确保幅度和相位的不失真 ,又能保证 M- H矩形度的不失真 ,以及矫顽力 Hc的一定精度。并给出一个比较例子 ,结果表明该方法更合理。