无功功率补偿技术在直流电弧CVD金刚石设备中的应用

利用无功功率补偿技术对直流电弧CVD金刚石设备中的电弧电源进行随机补偿,提高了功率因数,降低了线路电流,达到了节能降耗的目的,节约了电力增容和线路改造的费用。满足了生产规模扩大的需要。

线形同轴耦合式微波等离子体CVD法硬质合金微型钻头金刚石涂层沉积

本文介绍了利用线形同轴耦合式微波等离子体CVD法在硬质合金微型钻头(微钻)上沉积金刚石涂层的初步实验结果。微型钻头的直径为0.5mm,其中WC晶粒的尺寸约为0.5μm。在沉积前,先用Murakam i溶液(10gKOH+10gK3[Fe(CN)6]+100m l H2O)对微钻刻蚀10m in,使其表面粗化,然后用硫酸-双氧水溶液(10m l98wt%H2SO4+100m l 38%m/vH2O2)对其浸蚀60 s,以去除其表面的Co。在金刚石涂层过程中发现,由于微钻尖端在微波电磁场中产生较集中的辉光放电现象,因而在微钻尖端很难获得金刚石涂层。针对这种金刚石涂层过程中的“尖端效应”,尝试使用了金属丝屏蔽的方法以改变微钻周围的微波电磁场分布,克服了上述金刚石涂层过程中的“尖端效应”,首次成功地采用微波等离子体CVD法在微钻上沉积了厚度为1.5μm的金刚石涂层。

宁波材料所在CVD大块单晶金刚石合成技术方面取得进展

中国科学院宁波材料技术与工程研究所＂功能碳素材料团队＂以实现金刚石精密工具的国产化和产业化为目标,最近在CVD（Chemical-Vapor-Deposition：化学气相沉积）单晶金刚石合成方面取得了突破性进展。团队从国产微波等离子体CVD设备设计改造着手,开发了高密度、高稳定性的金刚石沉积装置。

宁波材料所在CVD大块单晶金刚石合成技术方面取得进展

中国科学院宁波材料技术与工程研究所“功能碳素材料团队”以实现金刚石精密工具的国产化和产业化为目标，最近在CVD（Chemical—Vapor—Deposition：化学气相沉积）单晶金刚石合成方面取得了突破性进展。团队从国产微波等离子体CVD设备设计改造着手，开发了高密度、高稳定性的金刚石沉积装置。

中科院CVD大块单晶金刚石合成技术获突破

中国科学院宁波材料技术与工程研究所以实现金刚石精密工具的国产化和产业化为目标，在化学气相沉积（CVD）单晶金刚石合成方面取得了突破性进展。研究人员从国产微波等离子体CVD设备设计改造着手，开发了高密度、高稳定性的金刚石沉积装置。与国外同类设备相比，其成本降低了70％。研究人员还自主开发了金刚石的生长工艺，通过对籽晶进行特殊处理，在制备过程中严格控制生长参数，实现了无色透明CVD单晶金刚石片的批量生产。

第四届国际碳材料产业展览会——金刚石展商风采掠影

由DT新材料和中国超硬材料网等单位联合主办的第四届国际碳材料大会暨产业展览会在上海跨国采购展览中心隆重开幕。此次展出金刚石产品、生产制造设备200余件,涵盖金刚石微粉、金刚石研磨液、CVD金刚石成型刀、CVD金刚石膜片、培育钻石、掺硼金刚石、生长用钻石晶种、激光切割机、CVD金刚石反应器、氢气制造机、人造金刚石压机电控系统、合成装备及技术检测设备等。为助力金刚石行业企业探索5G新时代下的金刚石创新应用,展会还设置了一场金刚石创新应用论坛、两场Workshop论坛、研讨会邀请金刚石领域专家学者、高校院所和企业技术研发人员,就“金刚石导热散热复合材料的开发及应用展望”“培育钻石发展现状及展望”“金刚石新材料应用”等热点话题进行研讨和互动交流。

美国SP3公司为赫瑞瓦特大学安装先进的金刚石沉积设备化学气相沉积金刚石应用新进展

美国SP3金刚石技术公司（以下简称SP3公司）是一家全球领先的金刚石薄膜产品、生长设备以及服务供应商。在不久前销售出一套先进的650型热丝法CVD金刚石沉积设备之后，

美国SP3公司为赫瑞瓦特大学安装先进的金刚石沉积设备

美国SP3金刚石技术公司（以下简称SP3公司）是一家全球领先的金刚石薄膜产品、生长设备以及服务供应商。在不久前销售出一套先进的650型热丝法CVD金刚石沉积设备之后，SP3公司宣布，他们已经将该套设备安装到位于苏格兰爱丁堡的赫瑞瓦特大学。作为该大学研究中的一个组成部分，本设备正在被用来研发一项可承受核聚变反应所产生巨大热量的技术。赫瑞瓦特大学在国际热核聚变实验堆（ITER）计划中扮演重要角色。

钎焊及其设备

CVD金刚石膜的钎焊界面反应层及显微结构；铝锂合金钎焊接头断口组织与性能；Sn-3Ag／Cu接头在钎焊和时效中IMC的生长和晶体取向分析；铜-铝合金（PU散热器钎焊技术研究；碳化硅质焊料连接氮化硅／碳化硅陶瓷的性能研究.

宁波材料所在CVD大单晶金刚石合成技术方面取得进展

中国科学院宁波材料技术与工程研究所“功能碳素材料团队”以实现金刚石精密工具的国产化和产业化为目标，最近在CVD（chemicalvapordeposition：化学气相沉积）单晶金刚石合成方面取得了突破性进展。团队从国产微波等离子体CVD设备设计改造着手，开发了高密度、高稳定性的金刚石沉积装置。与国外设备相比，成本降至百分之三十。

SP3公司新近推出双反应釜化学气相沉积设备

美国SP3公司近期推出新型热丝化学气相沉积设备——Model665。这一新型双反应釜设备可一次性容纳18片直径为100毫米的基体，这意味着其沉积面积较其早期的单反应釜设备提升了一倍。与早期产品相比，Model665在保证原有CVD金刚石生长质量、沉积速率以及工艺一致性的基础上加倍输出产能，因此其购置成本得以显著降低。

工模具PCVD表面陶瓷化成套工业技术

脉冲直流PCVD工模具表面强化的技术原理是：在专用的PCVD设备中，在一定的温度、气压条件下通入一定比例的工作气体，利用等离子场的能量，促成化学反应，在工模具表面形成耐热、超硬强化层。研制出的专用PCVD设备采用独特设计的内热式加热系统，真空室内安装发热器件，比外热式显著提高了热效率及加热速率，逆变式脉冲直流电源频率范围大、负脉冲深度可调。