1
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磁控溅射和脉冲直流化学气相沉积Ti-Si-N薄膜摩擦磨损性能对比研究 |
马青松
马胜利
徐可为
徐洮
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《摩擦学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2004 |
2
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2
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射频磁控管溅射沉积InN薄膜 |
晓予
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《电子材料快报》
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1999 |
0 |
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3
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用基体调谐的fr磁控管溅射获得离子辅助沉积薄膜 |
普民
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《等离子体应用技术快报》
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1997 |
0 |
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4
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高速率沉积AlN薄膜的磁控管溅射系统稳定性 |
马兵
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《等离子体应用技术快报》
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2000 |
0 |
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5
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工艺参数对直流反应磁控溅射ZnO:Al薄膜沉积速率的影响 |
邹上荣
王海燕
耿梅艳
穆慧
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《真空》
CAS
北大核心
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2009 |
0 |
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6
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直流反应磁控溅射制备氧化铝薄膜 |
唐秀凤
罗发
周万城
朱冬梅
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《热加工工艺》
CSCD
北大核心
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2011 |
12
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7
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工艺参数对直流磁控溅射法制备氧化铝薄膜的试验研究 |
武文革
张新宇
伏宁娜
成云平
刘丽娟
隋安平
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《制造技术与机床》
北大核心
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2017 |
3
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8
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直流磁控反应溅射制备Al_2O_3薄膜的工艺研究 |
杨和梅
陈云富
徐秀英
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《科学技术与工程》
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2010 |
4
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9
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直流反应磁控溅射法制备ZnO:Zr透明导电薄膜(英文) |
张化福
类成新
刘汉法
袁长坤
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《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2012 |
0 |
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10
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直流反应磁控溅射制备a-C:H薄膜及其表面粗糙度研究 |
张艳茹
杭凌侠
郭峰
宁晓阳
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《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2013 |
5
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11
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直流反应磁控溅射制备单一相Cu_2O薄膜及光电性能研究 |
王进霞
洪瑞金
张涛
陶春先
张大伟
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《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2017 |
1
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12
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直流磁控溅射制备非晶硅薄膜的研究 |
杨玉楼
周建伟
刘玉岭
张伟
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《电子设计工程》
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2010 |
2
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13
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MoNb薄膜直流磁控溅射制备及性能研究 |
林钢
张汉焱
孙楹煌
黄仁松
胡庆文
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《电子元件与材料》
CAS
CSCD
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2015 |
1
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14
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可增强溅射原子电离的ICP辅助平面磁控管放电 |
张正模
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《等离子体应用技术快报》
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1998 |
0 |
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15
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直流磁控溅射铝纳米颗粒膜的微结构及电学特性 |
花银群
朱爱春
陈瑞芳
郭立强
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《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2015 |
4
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16
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磁控溅射低阻ITO薄膜的气体参数优化 |
王军
成建波
饶海波
蒋亚东
杨刚
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《压电与声光》
CSCD
北大核心
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2007 |
9
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17
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Nb/Al-AlO_(x)/Nb约瑟夫森结薄膜沉积研究 |
高鹤
王仕建
徐达
李劲劲
王雪深
钟青
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《计量学报》
CSCD
北大核心
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2023 |
0 |
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18
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工作气压对磁控溅射Mo膜的影响 |
廖国
王冰
张玲
牛忠彩
张志娇
何智兵
杨晓峰
李俊
许华
陈太红
曾体贤
谌家军
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《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2011 |
4
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19
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工作气压对Bi薄膜沉积速率和表面形貌的影响 |
廖国
何智兵
杨晓峰
陈太红
许华
李俊
谌加军
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《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2011 |
0 |
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20
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基底材料对沉积氮化钛薄膜及其性能的影响 |
付淑英
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《中国材料科技与设备》
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2014 |
1
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