直流磁控溅射工艺对SmCo薄膜的影响

采用不同的直流磁控溅射工艺,制备了SmCo薄膜。分别用能谱(EDAX)和俄歇谱仪(ASE)对薄膜的平均成份和表面到内部成份分布进行了分析,用振动样品磁强计(VSM)分析了薄膜的磁性能,用原子力显微镜(ATM)分析了溅射薄膜的表面颗粒形貌。结果表明,溅射工艺因素对薄膜的成份和磁性能有较大的影响。