4H-SiC射频功率MESFET大信号直流I-V特性解析模型

根据 4H - Si C高饱和电子漂移速度和常温下杂质不完全离化的特点 ,对适用于 Si和 Ga As MESFET的直流I- V特性理论进行了分析与修正 .采用高场下载流子速度饱和理论 ,以双曲正切函数作为表征 I- V特性的函数关系 ,建立了室温条件下 4H - Si C射频功率 MESFET直流 I- V特性的准解析模型 ,适于描述短沟道微波段 4H- Si CMESFET的大信号非线性特性 ,计算结果与实验数据有很好的一致性 .同时与 MEDICI模拟器的模拟结果也进行了比较 .

激光辐射下约瑟夫森结的直流I-V特性

研究了激光辐照下约瑟夫森结的直流 I- V特性变化 ,并对 - 曲线下移的实验结果进行了分析 ,认为是光拆库柏对效应所致 .该结果为发展一种新的可见光探测器提供了思路.

4H-SiC射频功率MESFET的自热效应分析

采用载流子速度饱和理论 ,建立了包含“自热效应”影响的适用于 4H SiCMESFET的大信号输出I V特性解析模型 ,在模型中引入了温度变化的因素 ,提出了非恒定衬底环境温度T0 的热传导模型 ,模拟结果与实验值一致 。

考虑自热效应的AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管建模与仿真

基于电荷控制模型,分析了极化,载流子迁移率,饱和电子漂移速度,导带断续,掺杂浓度,沟道温度等与自然效应的关系,并考虑了寄生电阻对自热效应的影响,建立了模拟AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管直流I-V特性的解析模型。通过与试验值的对比,该模型具有较高的精度,并且计算过程简单,可以用来指导器件结构和电路的设计。