干涉空间相位光刻对准方法研究

介绍了一种适合高分辨力接近/接触式光刻的新型纳米级光刻对准方法。简要阐述了该对准方法的基本原理,探讨了应用该对准方法的光学结构设计,提出了照明光路与干涉条纹捕获光路的垂直设计,采用单色非曝光光源远心照明方式并外加补偿光路的结构设计。在软件处理方面,提出采用九点四线曲面拟合面阵CCD细分方法及最小二乘曲线拟合定位方法,实现光刻对准精度的进一步提高。该光刻对准方法能够克服现有对准技术的诸多缺陷,具有纳米级对准精度,能够满足纳米光刻的对准需求。

对ISAR成像系统M序列调相干扰技术研究

ISAR成像系统与普通雷达相比具有更强的抗干扰能力,使用常规的噪声压制干扰方法需要很大的功率才能实现目标像的有效破坏。文章介绍一种基于M序列码实现的转发式调相干扰技术,它可以具有较小的功率,实现对ISAR成像过程的有效破坏。