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Goldstein枝切法对存在间断相位缺陷的解缠研究 被引量:5
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作者 曾凡光 吴光敏 +1 位作者 MAI John D 陈剑鸣 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第3期335-341,共7页
Goldstein枝切法作为相位解缠中路径积分法的重要算法之一,其解缠结果易受到噪声或间断相位缺陷所引起的残差点影响。为了研究相位间断缺陷对解缠算法的影响,模拟了具有间断相位缺陷的数据,采用Goldstein枝切法进行了系统的解缠研究。... Goldstein枝切法作为相位解缠中路径积分法的重要算法之一,其解缠结果易受到噪声或间断相位缺陷所引起的残差点影响。为了研究相位间断缺陷对解缠算法的影响,模拟了具有间断相位缺陷的数据,采用Goldstein枝切法进行了系统的解缠研究。重点研究了残差点对枝切线的搜索窗口半径大小的影响,并将解缠相位与真实相位进行了比较。结果表明,在单相位间断和双不相交的相位间断缺陷的情况下,Goldstein枝切法仍然具有较好的解缠效果;对于双交叉相位间断缺陷,Goldstein枝切法在这一局部区域无法得到正确的解缠结果;通过研究枝切线搜索窗口半径对解缠的影响,验证了存在"有效枝切线搜索窗口半径"的结论。此实验结果对于采用或联合采用Goldstein枝切法进行的相位解缠理论研究和应用具有参考价值。 展开更多
关键词 信息光学 枝切法 相位缺陷 搜索窗口半径
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一维相位缺陷量子行走的共振传输
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作者 王丹丹 李志坚 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第6期9-15,共7页
从分立时间量子行走理论出发,分别在包含两个格点相位缺陷和一段格点相位缺陷(方相位势)的一维格点线上研究量子行走的静态共振传输.利用系统独特的色散关系和边界点上的能量守恒条件,获得量子行走通过缺陷区域的透射率,讨论了相位缺陷... 从分立时间量子行走理论出发,分别在包含两个格点相位缺陷和一段格点相位缺陷(方相位势)的一维格点线上研究量子行走的静态共振传输.利用系统独特的色散关系和边界点上的能量守恒条件,获得量子行走通过缺陷区域的透射率,讨论了相位缺陷的强度和宽度不同时透射率随入射动量的变化行为.在相位缺陷强度π/2两侧,透射率表现出不同的共振特性,并给出了强缺陷强度下共振峰和缺陷宽度的关系. 展开更多
关键词 量子行走 相位缺陷 散射特性
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EUV掩模白板缺陷的反射近场模拟研究
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作者 白智成 《材料科学》 2024年第6期983-991,共9页
极紫外光刻掩模白板是制造光刻图形的基础,随着极紫外光刻技术的不断发展,工艺要求逐渐向“零缺陷”掩模标准推进。在7 nm及以下节点,缺陷对于极紫外掩模白板良率的影响不可忽视。本文采用时域有限差分(Finite-Difference Time-Domain, ... 极紫外光刻掩模白板是制造光刻图形的基础,随着极紫外光刻技术的不断发展,工艺要求逐渐向“零缺陷”掩模标准推进。在7 nm及以下节点,缺陷对于极紫外掩模白板良率的影响不可忽视。本文采用时域有限差分(Finite-Difference Time-Domain, FDTD)方法仿真研究了反射近场强度分布的特征,并仿真得到了不同尺寸的缺陷在多层膜的内部纵向深度对相位的影响。 展开更多
关键词 极紫外光刻 掩模白板 时域有限差分 相位缺陷
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用于相位缺陷检测的动态泰曼干涉仪 被引量:4
4
作者 马云 陈磊 +2 位作者 朱文华 刘一鸣 李建欣 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第12期200-207,共8页
为了实现光学元件相位缺陷的大视场、高分辨率、动态检测,设计了一种动态泰曼干涉仪。该干涉仪采用短相干激光器结合迈克耳孙干涉结构产生1对相位延迟的正交偏振光,以此作为光源,通过匹配偏振型泰曼干涉仪干涉腔的相位差,补偿参考光与... 为了实现光学元件相位缺陷的大视场、高分辨率、动态检测,设计了一种动态泰曼干涉仪。该干涉仪采用短相干激光器结合迈克耳孙干涉结构产生1对相位延迟的正交偏振光,以此作为光源,通过匹配偏振型泰曼干涉仪干涉腔的相位差,补偿参考光与测试光之间的相位延迟。利用偏振相机瞬时采集4幅移相量依次相差π/2的干涉图,通过移相算法即可求解得到相位缺陷的信息。利用平面波角谱理论进行仿真,分析了二次衍射对测量结果的影响;利用琼斯矩阵法分析了偏振器件误差对测量结果的影响。实验检测了1块激光毁伤的光学平板,测试结果与Veeco NT9100白光干涉仪测量结果相比,相对误差为2.4%。此外,采用所述方法对强激光系统中光学平晶的相位疵病进行检测,测试结果显示波前峰谷值为199.2nm。结果表明,该干涉仪能够有效应用于光学元件相位缺陷的检测。 展开更多
关键词 测量 动态干涉 相位缺陷 空间移相 短相干光源
原文传递
存在相位缺陷的二维量子行走性质
5
作者 张融 张马龙 薛鹏 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2017年第2期266-277,共12页
研究了存在相位缺陷的二维量子行走的性质。研究结果表明,二维量子行走的性质取决于具体的硬币操作、硬币初始态以及不同类型的相位缺陷。由于标准量子行走的对称性被破坏,因此可观察到局域性。利用局域性对初态的依赖,可以实现对量子... 研究了存在相位缺陷的二维量子行走的性质。研究结果表明,二维量子行走的性质取决于具体的硬币操作、硬币初始态以及不同类型的相位缺陷。由于标准量子行走的对称性被破坏,因此可观察到局域性。利用局域性对初态的依赖,可以实现对量子行走粒子的过滤和囚禁。 展开更多
关键词 量子光学 量子行走 相位缺陷 局域性 纠缠态
原文传递
缺陷态同轴布拉格波导传输特性
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作者 赖颖昕 张世昌 危喜临 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第3期715-720,共6页
采用基于Ansoft HFSS的电磁仿真平台,研究了一个工作于Ka波段(37.5GHz附近)的缺陷态同轴布拉格波导在不同的开槽方式及缺陷位置条件下的传输特性。结果表明:该波导只有在内外导体壁单面开槽并引入缺陷,或者双面开槽且两个开槽面同时引... 采用基于Ansoft HFSS的电磁仿真平台,研究了一个工作于Ka波段(37.5GHz附近)的缺陷态同轴布拉格波导在不同的开槽方式及缺陷位置条件下的传输特性。结果表明:该波导只有在内外导体壁单面开槽并引入缺陷,或者双面开槽且两个开槽面同时引入缺陷的条件下才能够有效地产生出传输通带;对于后者而言,将内外导体壁的波纹初始相位差设置为π且让缺陷位于波导中间时,可以获得带宽极窄、阻带抑制范围较宽的传输通带,此时,给内外导体壁的缺陷引入适度的错位能够对通带的中心频率、带宽等性能指标起到微调作用,而引入大间距的错位则能够在禁带中产生出多个通带,从而起到多通道滤波的作用。 展开更多
关键词 同轴布拉格波导 相位缺陷 传输率 通带 电磁仿真
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缺陷对极紫外掩模多层结构反射场的扰动研究 被引量:2
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作者 李冠楠 刘立拓 +2 位作者 周维虎 石俊凯 陈晓梅 《半导体光电》 CAS 北大核心 2020年第2期217-222,共6页
极紫外光刻掩模具有特殊的多层膜堆叠的反射式结构,在工艺制造过程中极易产生缺陷,引起多层膜结构变形,从而对掩模反射场产生干扰。这种掩模缺陷是制约极紫外光刻技术发展的难题之一。建立了含有缺陷的极紫外掩模多层膜结构模型,在此基... 极紫外光刻掩模具有特殊的多层膜堆叠的反射式结构,在工艺制造过程中极易产生缺陷,引起多层膜结构变形,从而对掩模反射场产生干扰。这种掩模缺陷是制约极紫外光刻技术发展的难题之一。建立了含有缺陷的极紫外掩模多层膜结构模型,在此基础上采用时域有限差分(FDTD)法分析了缺陷尺寸和缺陷位置对掩模多层膜结构反射场分布的影响。结果表明,多层膜结构反射场受干扰程度是缺陷的高度和宽度综合作用的结果,并且与缺陷结构的平缓程度有关。反射场受干扰程度也与缺陷在多层膜结构内部的高度位置有关,引起多层膜结构靠近底层变形的缺陷对反射场的影响较小,而引起多层膜结构靠近顶层变形的缺陷对反射场有明显的干扰。 展开更多
关键词 极紫外光刻掩模 相位缺陷 时域有限差分法 扰动分析
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Site occupation evolution of alloying elements in Ni_3 V phase during phase transformation in Ni_(75)Al_(4.2)V_(20.8)
8
作者 张明义 李志刚 +3 位作者 张金玲 张会占 陈铮 张嘉振 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第5期1599-1604,共6页
Based on the microscopic phase-field model, the correlation between site occupation evolution of alloying elements in Ni3V-DO22 phase and growth of Ni3Al-L12 phase was studied during the phase transformation of Ni75Al... Based on the microscopic phase-field model, the correlation between site occupation evolution of alloying elements in Ni3V-DO22 phase and growth of Ni3Al-L12 phase was studied during the phase transformation of Ni75Al4.2V20.8. The results demonstrate that the growth of L12 phase can be divided into two stages: at the early stage, the composition of alloying elements in DO22 phase almost remains unchanged; at the late stage, the compositions of Ni and Al decrease while V increases in DO22 phase. Part of alloying elements for L12 phase growth are supplied from the site occupation evolution of alloying elements on three kinds of sublattices in DO22 phase. Ni is mainly supplied from V sublattice, and part of Al is supplied from NiⅠ and V sites at the centre of DO22 phase. The excessive V from the decreasing DO22 phase migrates into the centre of DO22 phase and mainly occupies V and NiII sites. It is the site occupation evolution of antisite atoms and ternary additions in DO22 phase that controls the growth rate of L12 phase at the late stage. 展开更多
关键词 Ni75Al4.2V20.8 alloy grain growth phase transformation microscopic phase-field antisite defect
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Site occupation evolution of alloying elements in L1_2 phase during phase transformation in Ni_(75)Al_(7.5)V_(17.5)
9
作者 张明义 刘富 +3 位作者 陈铮 郭红军 岳广全 杨坤 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第10期2439-2443,共5页
Correlation between site occupation evolution of alloying elements in L12 phase and growth of DO22 phase in Ni75Al7.5V17.5 was studied using microscopic phase field model. The results demonstrate that the growing proc... Correlation between site occupation evolution of alloying elements in L12 phase and growth of DO22 phase in Ni75Al7.5V17.5 was studied using microscopic phase field model. The results demonstrate that the growing process of DO22 phase can be divided into two stages. At the early stage, composition in the centre part of L12 phase almost remains unchanged, and the nucleation and growth of DO22 phase is controlled by the decrease of interface between L12 phases. At the late stage, part of V for growth of DO22 phase is supplied from the centre part of L12 phase and mainly comes from Al sublattice, the excess Ni spared from the decreasing L12 phase migrates into the centre part of L12 phase and occupies the Ni sublattices exclusively, while the excess Al mainly occupies the Al sublattice. At the late stage, the growth of DO22 phase is controlled by the evolution of antisite atoms and ternary additions in the centre part of L12 phase. 展开更多
关键词 nickel based superalloys Ni75Al7.5V17.5 alloy phase transformation micro-phase field grain growth antisite defect
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Position Dependent Spontaneous Emission Spectra of a Λ-Type Atomic System Embedded in a Defective Photonic Crystal
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作者 S.Roshan Entezar 《Communications in Theoretical Physics》 SCIE CAS CSCD 2012年第1期115-122,共8页
We investigate the position dependent spontaneous emission spectra of a A-type three-level atom with one transition coupled to the free vacuum reservoir and the other one coupled to a double-band photonic band gap res... We investigate the position dependent spontaneous emission spectra of a A-type three-level atom with one transition coupled to the free vacuum reservoir and the other one coupled to a double-band photonic band gap reservoir with a defect mode in the band gap. It is shown that, for the atom at the defect location, we have a two-peak spectrum with a wide dark line due to the strong coupling between the atom and the defect mode. While, when the atom is far from the defect location (or in the absence of the defect mode), the spectrum has three peaks with two dark lines due to the coupling between the atom and the photonic band gap reservoir with the largest density of states near the band edges. On the other hand, we have a four-peak spectrum for the atom at the space in between. Moreover, the average spontaneous emission spectra of the atoms uniformly embedded in high dielectric or low dielectric regions are described. It is shown that the atoms embedded in high (low) dielectric regions far from the defect location, effectively couple to the modes of the lower (upper) photonic band. However, the atoms embedded in high dielectric or low dielectric regions at the defect location, are coupled mainly to the defect modes. While, the atoms uniformly embedded in high (low) dielectric regions with a normal distance from the defect location, are coupled to both of defect and lower (upper) photonic band modes. 展开更多
关键词 spontaneous emission defective photonic crystal dark line three-level atom
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