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Si-C-O-N系统相稳定性和相稳定性图
被引量:
1
1
作者
凌志达
《南京化工学院学报》
1994年第1期33-39,共7页
对Si-C-O-N系统进行了平衡状态下的相稳定性计算,绘制了在1473K和1573K下的Si3N4、SiC、Si2N2O和SiO2相稳定性与N2分压和O2分压的关系图以及N2分压和SiO分区的关系图,Si3N4/Si...
对Si-C-O-N系统进行了平衡状态下的相稳定性计算,绘制了在1473K和1573K下的Si3N4、SiC、Si2N2O和SiO2相稳定性与N2分压和O2分压的关系图以及N2分压和SiO分区的关系图,Si3N4/Si2N2O/SiC、SiO2/Si2N2O/SiC两个三固相平衡点与N2分压、O2分压和SiO分压以及温度的函数关系日。并以此确定C纤维-SiC纤维转变和C纤维上涂层SiC过程中,为获得稳定SiC相的气体分压。
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关键词
Si-C-O-N系统
相
稳定性
气体分压
相稳定性图
陶瓷
全文增补中
题名
Si-C-O-N系统相稳定性和相稳定性图
被引量:
1
1
作者
凌志达
机构
南京化工学院材料科学与工程系
出处
《南京化工学院学报》
1994年第1期33-39,共7页
基金
国家自然科学基金
文摘
对Si-C-O-N系统进行了平衡状态下的相稳定性计算,绘制了在1473K和1573K下的Si3N4、SiC、Si2N2O和SiO2相稳定性与N2分压和O2分压的关系图以及N2分压和SiO分区的关系图,Si3N4/Si2N2O/SiC、SiO2/Si2N2O/SiC两个三固相平衡点与N2分压、O2分压和SiO分压以及温度的函数关系日。并以此确定C纤维-SiC纤维转变和C纤维上涂层SiC过程中,为获得稳定SiC相的气体分压。
关键词
Si-C-O-N系统
相
稳定性
气体分压
相稳定性图
陶瓷
Keywords
Si-C-O-N system
phase stability
partial pressure of gaseous phase.
分类号
TQ174.11 [化学工程—陶瓷工业]
全文增补中
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Si-C-O-N系统相稳定性和相稳定性图
凌志达
《南京化工学院学报》
1994
1
全文增补中
已选择
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条
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引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
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