CMP系统真空供给系统设计

研制了一套化学机械抛光机(CMP)专用的真空供给系统,主要由水环式真空泵、真空泵箱体、真空储气罐和水箱(汽水分离器)组成及控制模块组成。设计了水箱供水控制模块、水箱温度自动控制模块,通过控制水箱水温进而控制真空泵工作液的温度,保证真空度要求,同时也达到节约用水、降低能耗的要求。采用有限元分析软件ANSYS Workbench对真空供给系统机架进行了模态分析,研究机架的振型、固有频率,从而在结构设计上避免共振。

基于Cclink总线的自动真空灌装精涂系统实现

本文介绍了基于Cclink总线通讯的自动真空灌装精涂系统的控制方案及实现方法,并对相关真空系统的快速响应和节能问题进行了初步的分析。