真空蒸发镀膜技术的应用

叙述了真空蒸发镀膜技术的特点、原理及其操作注意事项 ,采用此技术可提高三用阀镀层质量 ,延长其寿命。

真空技术及应用系列讲座 第十八讲 真空蒸发镀膜

1概述 真空蒸发镀膜（简称蒸镀）是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质，使之汽化，蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。蒸镀是PVD技术中发展最早，应用较为广泛的镀膜技术，尽管后来发展起来的溅射镀和离子镀在许多方面要比蒸发镀优越，但真空蒸发镀膜技术仍有许多优点，如设备与工艺相对比较简单。

真空技术及应用系列讲座 第十八讲 真空蒸发镀膜

2．3．3膜材的蒸发速率在蒸发物固（或液）相与其气相共存体系中，在热平衡状态下，根据气体分子运动论，若气体压力为p，温度为r，则单位时间内碰撞单位蒸发面积的分子数为.

基于可视化的真空镀膜装备TBT竞争技术分析

当前国内真空镀膜装备技术市场规模持续扩大,而国际贸易竞争愈发激烈的背景下对TBT的研究更为重要,针对真空镀膜装备开展TBT竞争技术分析,采用数据可视化技术,以国内外TBT数据(通报和标准)为对象,探索可视化处理过程,通过实证图像解析领域内价值结果,尤其是聚焦TBT通报目的与技术内容、标准类别与主题的关联关系,形成文献数据、专利、以及TBT数据三位一体的可视化成果,从而转化为产业竞争技术,以广东为例构建产业标准体系与路线图规划,充分剖析真空镀膜装备的竞争现状和发展前景,指明该领域技术的前进方向。

表面工程应用实例 [例8] 真空蒸发镀膜技术在高端汽车灯具上的应用

真空蒸发镀膜是在真空环境下将镀膜材料加热熔化后蒸发，使其大量原子、分子离开镀膜材料表面，凝结在被镀件基体表面形成膜层的过程。相对于其它物理气相沉积技术，该技术具有设备简单，价格便宜，工艺容易掌握，可进行大规模生产等优点。我国已在超大容积室体的高真空动态快速获得、镀膜过程组态控制和复合镀制高性能保护膜、复杂曲面结构的均匀镀膜、

真空镀膜技术在塑料表面金属化上的应用

塑料表面金属化将改善塑料的表面性质,使其具有塑料和金属两者的独特功能,真空镀膜技术是现代塑料表面金属化的主要技术之一.介绍了塑料真空镀膜技术原理及其常见的镀膜方法,分析了塑料作为真空镀膜基体材料的特殊性,阐述了真空镀膜技术在塑料表面金属化上的应用情况,并提出了目前的研究热点.

改造真空蒸发镀膜机为蒸发溅射两用镀膜机

本文阐述了改造普通真空蒸发镀膜机为蒸发与磁控溅射多用途镀膜机的意义.叙述了两种磁控溅射靶的安装方式、结构与特点.介绍了改造后的多用途镀膜机在本科生教学实验和科学工作中的应用与效果.

真空表面技术 Ⅲ 溅射镀膜

离子和中性原子轰击固体表面会产生各种各样的现象。当入射粒子的能量相对较高的情况下(100～10000eV),轰击粒子会从固体表面进入固体内部,进而使组成固体的原子从表面放出,这种现象称为溅射。相应于每一个入射离子的溅射原子数称为溅射产额。溅射产额决定于入射离子的种类、能量、靶材的种类、入射离子相对于靶表面的入射角等。引起溅射的最低能量为溅射阈,对于金属靶大约为30～50eV。

真空镀膜技术的现状及发展

本文介绍了真空下各种镀膜技术的基本概念,讨论了各种镀膜装置的镀膜方式、特点和应用及真空镀膜技术的发展现状及趋势。

“热处理技术”和“真空镀膜技术”在走向融合

"热处理技术"和"真空镀膜技术"都是赋予零部件优异性能的技术,在国民经济的很多方面发挥了重要作用。最近几年,随着高新技术产品和高端制造业发展的需要,这两种技术在趋向融合。本文简介几种技术相互融合、相互助力的实例,说明社会发展需要热处理专业的科技工作者学习真空镀膜技术方面的知识。"真空镀膜技术"应该设为"热处理专业"、"材料专业"的技术基础课。

从欧洲真空镀膜会议分析光学薄膜及其技术的研究和发展

简要介绍了９６ 年欧洲真空镀膜会议概况，结合９４ 年第一届欧洲真空镀膜专题讨论会的内容，对欧洲各国在光学薄膜和薄膜技术的研究动向作了介绍；并介绍了广泛应用于激光、红外及航天等高技术中的类金刚石和金刚石薄膜、软Ｘ射线多层膜的研究成果。

基于真空镀膜的太阳能光热技术专业英语教学改革

目前国内太阳能光热技术行业急需具有外语交流能力的专业技术人员,本文分析了太阳能光热技术专业外语教学的现状和存在的问题,提出了相应的改革措施,以培养出掌握听、说、读、写、译等综合技能的现代型人才,推动太阳能光热技术行业的发展并提升其竞争能力。

真空离子精饰镀膜技术研究

黄铜基材装饰件表面采用高能级溅射离子镀 ,镀不锈钢代替电镀钯 -镍合金 ,采用等离子体型阴极弧源 -磁控溅射镀技术在不锈钢镀膜表面上镀制 Ti N/ Au透明陶瓷保护膜 Si O2 、Ti O2 。并对各膜层的硬度、耐蚀性、耐磨性及相结构进行分析。

石英晶体在真空镀膜测厚技术中的应用研究

基于石英晶体振荡原理 ,提出了在真空状态下的一种超薄型镀膜测厚方法 ,介绍了该项测厚技术的基本电气原理 ,研究了测厚过程中石英晶体材料的选取方法和组织实施原则 .石英晶体应具有固定的技术参数 ,并被安放于真空舱内的正确位置 .密闭的石英晶体探头通过同轴电缆与外部振荡器相连 ,振荡器输出的频率信号由微机进行处理 。

第十八讲 真空蒸发镀膜

另一个问题,就是镀膜材料对蒸发源材料的湿润性问题,它关系到蒸发源形状的选择.多数蒸发材料在蒸发温度时呈熔融状态,它们和蒸发源支持体表面会形成三种不同的接触状态,即湿润、半湿润和不湿润.这是由两种材料间的表面张力的大小决定的.在湿润的情况下,高温熔化的薄膜材料容易在蒸发源材料上展开,蒸发会从较大面积上发生,其蒸发状态稳定,且蒸发材料与支持体间粘着良好,可认为是面蒸发源的蒸发;在湿润小的时候,可认为是点蒸发源的蒸发,这种情况下蒸发材料就容易从蒸发源上掉下来.半湿润情况则介于上述两种情况之间,在高温表面上不呈点状,虽沿表面有扩展倾向、但仅限于较小区域内,薄膜材料熔化后呈凸形分布.润湿状态的几种情况如图8所示.

多层复合真空离子镀膜技术的新发展

本文回顾了多弧——磁控溅射多功能离子镀膜设备的结构和功能 ,并且对该设备在氮化钛掺金离子镀 (IPG)方面的典型应用 ,做了较为详细的膜层性能分析。同时 ,本文又对近年来一种新型的多功能离子镀设备——复合式离子镀膜设备的结构及特点做了介绍 ,给出了该类型设备的典型应用场合 ,并且向读者介绍了使用该设备镀制的金属 /金属陶瓷多层膜的优异性能。

真空技术及应用系列讲座 第十九讲 真空溅射镀膜

靶-基距对沉积速率有很大影响，图19给出了S-枪靶的靶基距对沉积速率的影响。从图中可见，随着靶基距的增加，沉积速率呈双曲线状下降。沉积速率随靶-基距的增加而下降是由于靶材粒子在迁移过程中的散射效应引起的。为了提高薄膜的沉积速率，可在保证阴极靶稳定放电和统筹考虑保证膜层厚度均匀性的前提下，尽量减小靶一基距，一般靶基距的最小值为5～7cm。

反应溅射镀膜技术与离子镀技术的异同

反应磁控溅射技术与离子镀技术在薄膜特点、成膜环境以及使用范围等方面有很多相同之处,从本质上来看都属于溅射镀膜技术,但从产生机理上看还是有一些区别的,本文将从两种技术的发生原理、常见特点和工艺角度阐述其不同点。

真空镀膜与LB薄膜技术相结合制备多层膜软X光反射镜

X光光学近年来有极大的发展,其重要原因是多层膜软X光反射镜的研制成功。这种反射镜,一般用物理汽相淀积方法蒸镀无机材料而得的多层结构。我们采用真空镀膜与LB薄膜技术相结合的方法成功地制备了一些无机材料与有机材料交替的多层结构,证明了它们具有厚度精确易控、吸收少、界面光滑及反射率高等优点。

浅析真空镀膜技术的现状及进展

随着可持续发展观的深入普及和社会经济的快速发展,经济与环保协同发展成为当下企业发展和科技创新的主要趋势。传统的通电镀膜技术会产生较大的污染,且镀膜质量不高,经济效益低下,已逐渐退出历史舞台,取而代之的是技术更加先进、镀膜质量更加优秀的真空镀膜技术。真空镀膜技术不仅能够满足人们对于产品外观的需求,而且在镀膜过程中不会对周围环境产生较大的污染。基于此,本文将对真空镀膜的技术原理及特点、发展历程和趋势进行相关论述。