基于双掩模光刻机的真空复印机构与工艺研究

介绍了双面光刻机的类型、工作原理及特点,研究分析了双掩模光刻机的曝光方式,提出了一种通过改进曝光模式、提高双掩模光刻机曝光分辨率及基片曝光线条均匀性的方法,并通过生产线工艺验证及数据分析,得出通过该工艺曝光模式,满足生产线实际工艺要求。

一种掩模版制版用夹具装置的研制

介绍了一种掩模版制版用夹具装置,该装置具有准确的定位功能,能够自动补偿片厚误差,可进行真空复印使母掩模版与子掩模版紧密贴附,操作方便等特点。