LS-MOCVD的真空度测量及自动控制

对液态源金属有机物化学气相沉积（Liquid Source-Metal Organic Chemical Vapor Deposition，LS-MOCVD）设备．文中主要研究了LS-MOCVD的反应室真空获取和控制的方法．整个设备的操作控制由PLC和触摸屏协作完成，用冷阴极电离全量程规测量粗真空，用高精度薄膜规测量工艺过程中的真空，采用内置PID算法的智能蝶阀控制器构成高真空恒压测量控制回路，实现了LS-MOCVD反应室真空的自动测量控制，确保了工艺的稳定性．反应室真空测量范围为常压～8×10^-3Pa，测量精度0．2％，分辨率为满量程的0．0015％．解决了传统气态源MOCVD不同材料之间蒸汽压差大、难以控制及气态金属有机物难以获得的问题．

小型真空室真空测量与控制系统的设计与实现

针对小型真空室在生产、制造和检测中的应用现状,该文提出并设计了一种适用于中高真空度、带变频控制的小型真空室真空测量与控制系统,并对其进行了试验验证。该系统具有实时采集和上传真空室压力值以及变频器频率值、在线调节真空泵的转速以及单步调试的功能。试验采用计算机模拟上位机,通过基于Lab VIEW构建的监控平台,监测系统的工作状态,并对系统进行控制。试验结果表明,该控制系统各个部件运转正常,对真空室压力值和变频器频率值测量准确,能够在线调节变频器的频率值,在实现真空度控制的同时达到节约能源的效果,并且该控制系统的单步调试功能可以进行故障排查,为整机调试和检修带来方便。