压电陶瓷阀在真空磁控反应溅射中的特性

在制备不锈钢-氮化铝(SS-AlN)金属陶瓷集热管的真空磁控溅射镀膜线上,采用PCV25型压电陶瓷阀作为反应气体氮气N2流量输出的驱动元件,实现反应溅射AlN反馈控制。研究了不同环境温度下压电阀偏置电压Vo对N2输出流量Q的影响。实验研究表明,在Vo先增加再减少的过程中,Q相应变化呈现迟滞特性。同时,该迟滞特性受压电阀工作的环境温度影响,环境温度越低迟滞特性越明显。例如与40℃相比,当环境温度为25℃时,压电阀的阈值电压小,饱和电压大,有效工作范围宽,且在压电阀有效工作范围内,N2输出流量Q随偏置电压Vo变化速率小。结合压电陶瓷阀的特性,优化设置反应溅射反馈控制参数,在高于30kW的溅射功率下,实现反应溅射AlN工艺稳定,制备厚度约为70 nm的AlN薄膜在可见光和太阳光范围内吸收几乎为零。

超高真空磁控溅射生长铌薄膜

金属铌的超导转变温度高,在超导电子学和超导量子电路中有着广泛的应用。铌膜通常采用常规磁控溅射设备进行制备。为了改善铌膜的质量,利用超高背景真空的磁控溅射设备进行铌膜制备工艺的研究非常重要。结合真空分析表征、低温输运测量等技术系统性地研究了溅射参数对铌膜表面粗糙度和晶粒大小的调控,并分析了生长条件对铌膜超导转变温度和剩余电阻比的影响。利用硅上铌膜制备的共面波导谐振器,在10 mK温度,单光子激励下,本征品质因子超过一百万,表明超高真空磁控溅射生长的铌膜微波损耗极低。

可热加工真空磁控镀膜玻璃的研制

介绍了可热加工真空磁控镀膜玻璃的研制,并对膜层结构的设计,如何增强膜层与玻璃间的牢固性,以及生产中应注意的一些问题进行了介绍和探讨。

真空磁控溅射镀膜设备中罗茨泵的保养与维护

真空磁控溅射设备的真空度高低及稳定性直接决定了镀膜产品性能,真空条件控制是镀膜的关键技术之一。通过开发使用罗茨泵关键零部件的安装、拆卸装置,可以有效降低罗茨泵的日常自主保养成本和周期。

对生产大面积建筑镀膜玻璃的真空磁控溅射阴极靶结构的研究

目前,生产大面积建筑镀膜玻璃广泛采用真空磁控溅射镀膜工艺,而这种工艺的核心和关键是磁控溅射阴极靶。因此对靶结构的研究也就成为真空磁控溅射镀膜工艺中的重要课题之一。本文对目前国内外使用的三种阴极靶结构,即同轴圆柱靶、矩形平面靶、旋转式新型柱状靶进行了分析,阐述了三种结构的优缺点,以及靶材刻蚀、膜厚均匀性和靶材利用率等方面的问题,总结出适合于生产大面积建筑镀膜玻璃的阴极靶结构。

真空磁控溅射镀膜玻璃

用大型真空磁控溅射工艺技术生产多种系列、不同性能、颜色各异,用途广泛的高级镀膜玻璃是当今世界上又一新型建筑装饰材料。 镀膜玻璃是利用对可见光和太阳能透射率、反射率的不同,应用于建筑物幕墙,使蔚蓝色天空和城市景观再现于建筑物上,赋于浓厚的生活气息,集建筑艺术和美学为一体。国际上已广泛采用镀膜玻璃作建筑物幕墙,八十年代后使用量迅猛上升。我国随着对外开放政策不断深入,高级建筑物如雨后春笱般林立。

标准真空电馈通微型磁控管真空计及其性能研究

目前冷阴极电离真空计在微型真空系统中的应用较少,文章对一种磁控管真空计(MMG)进行研究,成功达到了微小尺寸与高真空测量水平同时满足的目标,该MMG体积仅有0.3 cm^(3),比目前市售的磁控管真空计小30倍以上,同时由于其连接器设计使其能够与标准真空电馈通相适配。用COMSOL模拟了磁控管真空计内部电磁场分布与电子运动轨迹,实验测试得到了MMG在−500~−2500 V电压下10^(−4)~10^(−7)mbar之间的电流与真空度关系曲线,选取最适合MMG测量的电压进行重复测量并拟合得到其灵敏度,将拟合得到的数据与校准真空计测量数据对比得到MMG误差范围。该MMG可用于微型真空系统中10^(−4)到10^(−7)mbar范围真空度的测量。

一种反磁控冷阴极真空规的脉冲操作模式

冷阴极真空规应用时有较大的抽气作用,而且放电产生的热量和离子溅射对电极表面的污损也使其正常操作受到一定影响。为此,本文设计了一种智能脉冲高压电路,对一种反磁控冷阴极真空规(IMG)的脉冲放电测量模式、恒流放电测量模式及不同压强下的伏安特性等问题进行了实验研究。指出将低压强下的直流放电模式和较高压强时的脉冲放电模式结合起来是反磁控冷阴极真空规的一种较为合理的应用方法。

脉冲磁控真空计不拆卸测量方法研究

讨论了真空灭弧室真空度测量的一般方法及其缺陷,针对现有的脉冲磁控法只能拆卸测量的缺陷,设计了∏形线圈并给出了部分测量结果。

磁控溅射Ti-Al-N复合膜的摩擦磨损性能分析

采用真空磁控溅射技术的方法制备了不同Al质量分数的Ti-Al-N薄膜,分别研究了室温及高温下不同Al质量分数的Ti-Al-N薄膜的摩擦磨损性能.研究结果表明,Al质量分数和温度都对薄膜的摩擦磨损性能产生较大的影响.室温时,当Al质量分数为49.97%时,薄膜的平均摩擦系数最小,为0.772 3;高温条件下,薄膜的摩擦系数显著低于室温条件下,当Al质量分数为39.51%时,平均摩擦系数最小,为0.379 2.

基于FPGA的太阳能真空集热管磁控溅射镀膜机控制系统的设计

介绍了基于FPGA的太阳能真空集热管磁控溅射镀膜机控制系统的整体设计和工程实现过程。该设计以可编程逻辑器件为核心控制部件,它由工序控制流程模块、参数设置及调用模块和通讯模块三个模块组成;并基于超高速硬件描述语言在Xilinx公司SpartanⅡ系列的XC2S2005PQ-208芯片上编程实现;结合先进的人机界面触摸屏,直观地监控整个工艺过程,实现对太阳能真空集热管磁控溅射镀膜机较理想的控制。

热湾磁控真空溅射镀膜玻璃我国首先研制成功

随着我国建筑业的蓬勃发展，建筑物外墙墙体也日新月异，由砖墙发展到轻体的幕墙，又由有框铝合金玻璃幕墙，隐框玻璃幕墙，发展到铝板幕墙、陶瓷板、石材、单元式幕墙，国外已发展到铝合金隔热保温多功能玻璃幕墙。不论什么形式幕墙和各种类型的窗都离不开玻璃，由于镀膜玻璃具有优良的性能和诱人的镜面装饰效果，特别引起设计师及用户的青睐。

工艺参数对磁控溅射ZrN膜耐腐蚀性能的影响

为寻求真空磁控溅射ZrN膜耐蚀性与其溅射工艺间的规律,在1Cr18Ni9Ti不锈钢表面以不同的工艺参数真空磁控溅射了系列ZrN膜。通过中性盐雾试验确定了不同工艺参数所得ZrN膜的耐蚀性等级。结果表明:ZrN膜耐蚀性随N2流量的增加先增加,但超过15 mL/min后,膜的耐蚀性反而下降;ZrN膜耐蚀性随反应温度升高而增强;ZrN膜的耐蚀性随反应时间的增加越来越好,但超过15 min后,膜的耐蚀性不再增强;以ZrN膜的耐蚀性为依据,最佳溅射工艺参数为N2流量15 mL/min,反应时间15 min,反应温度200℃。

第二十一讲真空卷绕镀膜

(接2022年第1期88页)3.5.2海绵导电化真空磁控溅射技术是海绵卷导电化处理非常行之有效的方法,也是目前国际上最先进的工艺方法。它可以解决采用化学镀或涂导电胶的方法在海绵镍中产生微量元素污染的问题,提高电池充电次数和使用寿命,同时又可以消除原方法产生的环境污染。

计算机控制在真空海绵镀镍设备中的应用

详细介绍了国内第一台高真空连续卷绕海绵镀镍设备的电气控制系统及工业控制计算机和 PL

真空溅射制备复合材料双极电池基体的研究

本文简述了复合材料双极板的真空溅射制作工艺,采用该双极板制作双极性铅酸蓄电池,并与传统铅蓄电池进行比较,结果表明,该工艺制备的双极性铅酸蓄电池具有用铅少、质量轻、体积小、电池内阻低、大电流充放电、使用寿命长等优点,拥有广泛的应用前景。

极高真空电离规的校准实验研究

介绍了2支反磁控型冷阴极极高真空电离规和1支热阴极极高真空电离规的校准实验研究结果。实验设备是一台极高真空校准装置,实验范围为10^(-9)～10^(-1)Pa,实验气体为N_2。实验结果表明,尽管2次校准结果的重复性较好,但就单次校准结果来看,每个规的灵敏度(修正因子)的最大值和最小值之间的偏差较大。因此,极高真空电离规要得到准确的测量结果,对其进行精确校准是非常必要的。

镀银玻璃镜用钝化剂研究进展

为了提高镀银玻璃镜镜背涂料和镀银层之间的附着力,在镀银层上必须用钝化剂钝化镀银层,但现有钝化剂的使用造成镀银玻璃镜生产过程中的废水排放量增大。因此,开发环境友好的钝化剂很有现实意义。本文对镀银玻璃镜钝化剂的发展过程中的文献进行了梳理,虽然无铜镀银钝化剂解决了镀银玻璃镜镀铜层钝化剂生产过程中铜离子对环境的污染问题,但还是会产生有害的废水,而且生产工艺比采用镀铜层钝化剂更复杂和耗时耗能。因此,镀银玻璃镜镀银层的钝化剂应向高交联反应的有机高分子钝化剂和真空磁控溅射镀金属钝化剂方向发展才能真正解决镀银玻璃镜的环境污染问题。

基于PLC的真空离子镀膜机控制系统设计

真空离子磁控溅射镀膜是一种被广泛使用的镀膜工艺,具有工艺质量好、操作简便、控制灵活等优势。因此,探讨了基于PLC的真空离子磁控溅射镀膜机的控制系统结构和软硬件设计。该系统可实现真空离子磁控溅射镀膜机的逻辑控制和数据处理,以及自动化操作,提高镀膜工艺控制水平。

新型复合真空计校准技术研究

随着真空应用产业的发展,新型复合真空计由于其具有优越的技术性能,在真空测量领域发挥着越来越重要的作用,被各大厂矿、企事业单位广泛使用。该真空计采用模块化集成设计,实验室常规的校准方法无法进行校准,通过对反磁控皮拉尼复合真空计测量原理的分析,将可变量输出的对数模拟标准电压信号转化为真空度信号,进行示值误差分析,对照国家颁布的相关校准规范,给出校准结果。此技术为复合真空计的校准提供了实验基础和理论依据,解决了该类型真空计的校准难题。