连续带钢真空蒸发镀膜设备设计

介绍了一种连续带钢真空蒸发镀膜设备,对设备工艺流程以及各部件的结构和功能进行了详细的设计分析。该设备采用真空蒸发镀膜工艺在带钢表面覆盖一层金属薄膜,可显著提高带钢的耐腐蚀性能。经试验验证,该设备成功在钢带表面形成具有优异保护性能的Zn-Mg-Zn复合膜。

绒面吸波面料真空蒸发镀膜性能分析

针对电子设备引起的辐射问题,采用真空蒸发镀膜机在绒面织物表面进行镀膜,研究不同蒸镀材料和不同蒸镀厚度对材料吸波性能的影响.利用绒面立体结构织物作为吸波面料的基布,通过改变基布、吸波剂、蒸镀厚度等因素,进一步测试吸波剂的电磁参数和吸波面料的反射率,对吸波性能进行分析.实验结果表明,在真空蒸发镀膜中,蒸镀的厚度直接影响了反射率值,对于磁损耗型吸波剂,如铁硅铝由于真空蒸发镀膜的厚度较薄(0.5~1.5μm),吸波效果的提高并不明显.对同种磁损耗型吸波剂而言,镀层厚度的增加有利于吸波效果的增强.

真空蒸发镀膜膜厚影响因素的实验研究

对蒸发镀膜过程中影响镀膜厚度的因素进行了实验分析 ,并运用CurveExpert软件对实验曲线进行了拟合 。

真空蒸发镀膜技术在大功率螺旋线行波管上的应用

就真空蒸发镀膜在大功率螺旋线行波管上的应用、工艺要点进行了总结。

真空技术及应用系列讲座 第十八讲 真空蒸发镀膜

1概述 真空蒸发镀膜（简称蒸镀）是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质，使之汽化，蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。蒸镀是PVD技术中发展最早，应用较为广泛的镀膜技术，尽管后来发展起来的溅射镀和离子镀在许多方面要比蒸发镀优越，但真空蒸发镀膜技术仍有许多优点，如设备与工艺相对比较简单。

真空技术及应用系列讲座 第十八讲 真空蒸发镀膜

2．3．3膜材的蒸发速率在蒸发物固（或液）相与其气相共存体系中，在热平衡状态下，根据气体分子运动论，若气体压力为p，温度为r，则单位时间内碰撞单位蒸发面积的分子数为.

真空蒸发镀膜生产大平面建筑玻璃的工艺

真空蒸发镀膜是生产建筑幕墙玻璃常用的一种方法，为保证膜层附着力等各项性能，合理的工艺流程是必要的。结合生产实际，对有关的工艺进行了详细的分析。

真空蒸发镀膜设备性能的改进

为提高镀膜设备的效率及可靠性,以适应技术发展需要,对真空镀膜设备的设计制造(重点是箱式前开门型设备)方面,对镀膜室的布局,基片装载量及真空系统的配置和电气控制等方面进行了适当的改进,提高挡次。并尽可能留有增加可选配功能部件的装配位置,如光学膜厚测量控制装置和石英晶体膜厚测量控制仪,低能宽束离子源,氩离子射频轰击装置等改进膜层质量,扩大功能适应各种使用要求。

改造真空蒸发镀膜机为蒸发溅射两用镀膜机

本文阐述了改造普通真空蒸发镀膜机为蒸发与磁控溅射多用途镀膜机的意义.叙述了两种磁控溅射靶的安装方式、结构与特点.介绍了改造后的多用途镀膜机在本科生教学实验和科学工作中的应用与效果.

真空蒸发镀膜膜厚的测量

测量镀膜厚度的方法有很多,在实验室现有的条件下,探究光学干涉方法测出镀膜厚度,其中光学干涉方法包括两种:一是根据多光束干涉的原理,利用读数显微镜测量镀膜的厚度;二是根据白光干涉的原理,利用迈克尔逊干涉仪测量镀膜的厚度。

第十八讲 真空蒸发镀膜

⑤具有轴向枪、磁聚焦和磁偏转90。的蒸发器：如图11（e）所示。采用水平安装电子枪，电子束经静电偏转或磁偏转之后再轰击镀料，可克服蒸气污染和占用有效空间的缺点。

第十八讲 真空蒸发镀膜

由于在T为10～10^3K范围内，蒸发热△Hv是温度的缓变函数，可近似地把△Hv看作常数。

真空蒸发镀膜制备MIM隧道发光结的实验研究

采用真空蒸发镀膜方法制备了MIM隧道发光结。对MIM隧道发光结的制备工艺进行了分析，阐述了各膜层的制备特点，描述了所制备的MIM结的发光特性，简单讨论了与发光相伴随的I-U特性曲线上的负阻现象。

影响真空蒸发镀膜膜厚的因素分析

介绍了真空蒸发镀膜的基本原理,对蒸发镀膜过程中影响镀膜厚度的因素进行了理论计算和实验分析,从而找出对镀膜厚度的影响规律。

真空蒸发镀膜的两种新观察方法

本文对真空蒸发镀膜机采用了两种新的观察方法，避免了在观察玻璃窗口上成膜，实现了长期有效清楚的观察．

第十八讲 真空蒸发镀膜

（接2013年第1期第96页） 残余气体分子撞击着真空室内的所有表面，包括正在生长着的膜层表面。在室温和104Pa压力下的空气环境中，形成单一分子层吸附所需的时间只有2．2S。

第十八讲 真空蒸发镀膜

另一个问题,就是镀膜材料对蒸发源材料的湿润性问题,它关系到蒸发源形状的选择.多数蒸发材料在蒸发温度时呈熔融状态,它们和蒸发源支持体表面会形成三种不同的接触状态,即湿润、半湿润和不湿润.这是由两种材料间的表面张力的大小决定的.在湿润的情况下,高温熔化的薄膜材料容易在蒸发源材料上展开,蒸发会从较大面积上发生,其蒸发状态稳定,且蒸发材料与支持体间粘着良好,可认为是面蒸发源的蒸发;在湿润小的时候,可认为是点蒸发源的蒸发,这种情况下蒸发材料就容易从蒸发源上掉下来.半湿润情况则介于上述两种情况之间,在高温表面上不呈点状,虽沿表面有扩展倾向、但仅限于较小区域内,薄膜材料熔化后呈凸形分布.润湿状态的几种情况如图8所示.

第十八讲真空蒸发镀膜

（接2013年第5期第80页）制作方法如下：将上述三种材料按重量比混合均匀，用氮化硼或石墨作模具，在压力为10MPa～40MPa和温度为1500℃～1900℃的条件下热压成形。氮化硼导电陶瓷与石墨等材料的特性比较见表7。用氮化硼导电陶瓷制成的蒸发器的形式如图10所示。

真空蒸发镀膜法制备TiO_2薄膜及其催化活性

用真空蒸发镀膜法在铜、玻璃板、不锈钢板3种不同材料上负载了TiO2薄膜,并用扫描电镜(SEM)和能量色散谱(EDS)对薄膜进行表征与分析.以苯酚废水为对象进行了光催化降解试验,研究了3种不同基材TiO2薄膜的光催化活性.与商品TiO2粉末的悬浮态光催化试验对比,该方法制备的TiO2薄膜具有催化剂用量少,活性高,易回收的优点.不同基材的TiO2薄膜光催化活性有所不同,不锈钢板较好,玻璃板次之,铜板最差.

真空蒸发镀膜法制备金属铈薄膜的表征

采用真空蒸发镀膜法在不锈钢基体上制备金属铈薄膜,利用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)研究铈薄膜的形貌和物相结构,通过俄歇电子能谱仪(AES)和X射线光电子能谱仪(XPS)测量元素形态及膜层深度。分析结果表明:金属铈薄膜表面致密,与不锈钢基体紧密结合,膜层的厚度约为24μm;金属铈薄膜的表面已经被氧化,氧化膜的厚度约为340 nm,其成分主要由CeO2组成,也含有少量的Ce2O3。