真空镀膜机电子束蒸发器工作原理及故障处理

根据Leybold真空镀膜机电子束蒸发器的工作原理,结合实际维修经验,分析电子束蒸发器常见故障的成因,梳理排查步骤及解决措施,总结蒸发器日常使用中的注意事项。

现代真空镀膜机电气控制系统的设计与实现

真空镀膜机是在真空条件下制备薄膜于基体表面的设备。论述了真空镀膜机的发展趋势和总体构成。结合镀膜工艺流程,对电气控制系统软、硬件结构进行了论证分析和相应的设计。同时介绍了PLC的选型,最终实现了以欧姆龙PLC为核心的现代真空镀膜机控制系统。该电气控制系统具有手动/自动控制、故障报警等功能。系统经过了实验室和现场的两步调试,解决了潜在问题。最终生产实践证实了该系统的可行性,实现了工艺要求,满足了客户需求。

可编程序控制器在真空镀膜机上的应用

文中介绍采用可编程序控制器改进单机单片磁控溅射真空镀膜机的设计和运行情况。本系统可以连续工作，每次可镀三十片玻璃，并可镀复合膜多达三层，比以前单机单片镀膜工艺显著提高了工作效率，降低了成本，改善了产品质量。

低功耗磁溅式真空镀膜机自动控制系统

本文阐述了以PLC和触摸屏为核心的低功耗真空镀膜机自动控制系统。系统的分子泵单元节能90％以上,并介绍了该系统的软硬件结构,降低控制系统的功耗的方法,以及对靶单元实现闭环控制,控制电流的精度达0.5％,从而获得稳定的靶电流。

用PLC实现的磁溅式三靶真空镀膜机控制系统

设计的磁溅式三靶真空镀膜机控制系统,采用三菱PLC和EasyView触摸屏,具有参数设置、工艺流程控制、故障报警、保护等功能.文中介绍了PLC控制系统硬件与软件结构,以及对靶单元实现闭环控制,获得稳定靶电流情况.

用单片机控制卷绕式真空镀膜机

本文介绍了用单片机控制卷绕式镀膜机的方法 ,着重介绍了如何结合镀膜的工作流程来决定单片机控制系统的组成。

真空镀膜机改装成热丝CVD系统

通过重新设计和改造镀膜室 ,增添新引线和引进进气系统 ,将蒸发镀膜装置改装成新型热丝 CVD(化学气相沉积 )系统 .性能参数测试结果表明 ,改装后的装置完全达到化学气相沉积系统的要求 ,能进行金刚石、BCN材料等物质的化学气相沉积 ,同时也完好地保留了原有真空镀膜的功能 .

基于OpenGL实现真空镀膜机三维仿真

基于实验教学的需要,经过周密的策划和精心的准备制作了一套真空镀膜机仿真软件。该软件通过3D Studio Max构建复杂的真空镀膜机模型,利用Visual Basic 2010 Express Edition(VB2010),结合OpenGL函数库实现真空镀膜机模型的重构,并在拾取模式下实现了与用户交互的操作,并对该软件的制作过程进行了详实的说明以期望能对同行有一定的借签作用,促进仿真实验的发展,提高实验教学效果。

基于可靠性分析的真空镀膜机控制系统研究

通过对真空镀膜机的故障树分析,找出影响整个系统的薄弱环节,为控制系统可靠性设计提供参考。结合镀膜工艺流程,对控制系统软、硬件进行了论证分析和相应的设计,实现了以PLC为核心的真空镀膜机控制系统。该控制系统具有手动/自动控制、故障报警等功能,最终生产实践证实了该系统的可行性和可靠性,满足了工艺要求。

用PLC实现的磁溅式三靶真空镀膜机控制系统

设计的磁溅式三靶真空镀膜机控制系统,采用三菱PLC和EasyView触摸屏,具有参数设置、工艺流程控制、故障报警、保护等功能。文中介绍了PLC控制系统软硬件结构,及抗干扰措施。

提高真空镀膜机在物理实验中的利用率

由于本系实验室的真空镀膜机无法控制镀膜厚度,因而大大缩小了真空镀膜机在物理实验中的应用范围.为了解决有关的物理实验对膜厚的需求问题,笔者设计了本实验,研究了膜厚与蒸镀时间、反射系数以及分束比的关系,提高了真空镀膜机的利用率,为教学和科研提供了方便.

真空镀膜机比较片机构性能和强度的优化设计

分析现有光学真空镀膜机比较片机构在使用过程中存在的问题。根据现代光学真空镀膜机的发展趋势和实际生产中急需解决的问题,通过多方面的研究分析,优化设计新一代的镀膜机比较片结构,解决影响光学薄膜质量和超多层精密光学薄膜镀制的问题,以提高薄膜的监控精度,实现系统的自动控制,提高光学真空镀膜机生产效率,降低生产成本。使现代光学真空镀膜机的结构配置及使用效果达到最佳。

基于MCGS组态软件的真空镀膜机监控系统

介绍利用MCGS组态软件实现真空镀膜机实时监控画面的过程。通过组态软件实现监控画面、报警、控制等功能,具有实现简单、系统可靠的特点。控制系统中上位机PC、下位机PLC通过通信接口交换信息、协调工作,实现整个过程的监控和自动运行。运行的结果证实,系统运行安全可靠,同时提高了设备的自动化程度。

一台DMD-450型真空镀膜机低能X射线的剂量水平

本文主要介绍了西北电讯工程学院一台 DMD-450型真空镀膜机低能 X 射线的辐射水平,并测算出工作条件为11kV、125mA 时,人在观察窗外7cm 处观察1h 眼晶体所受到的吸收剂量为1.78mrad。如果在观察窗处使用5mm 厚的铅玻璃,可使剂量降为本底水平。

一种新型的幅宽1500mm的卷绕式真空镀膜机

幅宽1500 mm卷绕式真空镀膜机,是为了满足1500 mm幅宽的聚脂薄膜(PET)、定向聚丙烯薄膜(OPP)、聚丙烯流涎薄膜(CPP)、聚乙烯薄膜(PVC)的真空镀铝而设计的。和通常的卷绕式真空镀膜机相比,具有真空度高,抽真空的时间短,卷取性能好,镀膜幅度宽,镀膜速度快,跑偏量小,镀膜层牢固、均匀等优点。是一种理想的卷绕式真空镀膜机。

真空镀膜机的X射线形成及其防护

本文仅对真空镀膜机产生的X射线的形成、对人体的危害、计算及其防护等进行简单的分析和计算。

真空镀膜机用小型磁性液体密封设计

真空镀膜机的传动控制轴处密封通常采用的是接触式机械密封,易磨损、寿命短、制作工艺繁琐、造价高.本文设计了小轴径真空镀膜机用的磁性液体密封结构,对磁性液体密封结构的磁场进行了有限元分析,得到了密封结构的磁场分布,以及密封结构的极齿处磁场强度值.由磁性液体运动方程推导了伯努利方程,确定了磁性液体密封边界条件,推导了磁性液体密封结构的耐压公式,计算了极齿与转轴不同间隙的真空镀膜机磁性液体密封结构的耐压值,加工了间隙为0.1 mm的磁性液体密封装置,应用在真空镀膜机的转动轴动密封处,满足真空度要求.

将真空镀膜机改装为真空离子镀膜机

真空镀膜技术已广泛地应用于光学、磁学、半导体物理学、微电子学以及激光技术等领域,因此真空镀膜技术也成为一项应用面很宽的基本技术。我们所开设的"真空镀膜"实验多年来一直很受同学们的欢迎,成为一个很有特色的实验。但镀膜技术及设备发展很快,特别是近年来离子镀技术以它诸多优点正被广泛应用。离子镀是二十世纪七十年代发展起来的新技术,它的原理是美国的 D.