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大屏幕彩色显像管光点像散分析 被引量:3
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作者 李朝明 董北斗 +1 位作者 邹小豹 李仪 《真空电子技术》 2002年第1期47-51,共5页
大屏幕彩色显像管电子枪通常采用非轴对称四极透镜 ,其目的是形成一定正像散的着屏光点以抵消偏转磁场产生的负像散。理想情况是着屏光点在任何工作电流下都具有一定正像散。对几种典型大屏幕彩色显像管电子枪聚焦性能进行模拟表明 :理... 大屏幕彩色显像管电子枪通常采用非轴对称四极透镜 ,其目的是形成一定正像散的着屏光点以抵消偏转磁场产生的负像散。理想情况是着屏光点在任何工作电流下都具有一定正像散。对几种典型大屏幕彩色显像管电子枪聚焦性能进行模拟表明 :理想情况只出现在一定电流范围内 ,电流变化时 。 展开更多
关键词 幕彩色显像管 像散 聚焦 着屏光点 分辨率 四极透镜
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大屏幕彩色显像管光点像散分析
2
作者 李朝明 宋静远 《彩色显像管》 2001年第2期3-6,共4页
大屏幕彩色显像管电子枪通常采用非轴对称四极透镜,其目的是形成一定正像散的着屏光点以抵消偏转磁场产生的负像散。理想情况是差屏光点在任何工作电流下都具有一定正像散。对几种典型大屏幕彩色显像管电子枪聚集性能进行模拟表明:理... 大屏幕彩色显像管电子枪通常采用非轴对称四极透镜,其目的是形成一定正像散的着屏光点以抵消偏转磁场产生的负像散。理想情况是差屏光点在任何工作电流下都具有一定正像散。对几种典型大屏幕彩色显像管电子枪聚集性能进行模拟表明:理想情况只出现在一定电流范围内,电汉变化时,着屏光点的像散量会有较大的变化。 展开更多
关键词 像散 聚焦 着屏光点 分辨率 幕彩色显像管
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大屏幕彩色显像管电子枪聚焦性能分析 被引量:1
3
作者 李朝明 陈德权 《彩色显像管》 2001年第1期13-15,共3页
电子枪聚焦性能是由电极结构决定的。本文通过计算机模拟的方式对三种典型的用于大屏幕彩色显像管电子枪的光点形貌进行了系统模拟。对各电子枪聚焦特性进行的分析和比较表明电子束形成区、主透镜结构对屏蔽中心、角部的着屏光点及不同... 电子枪聚焦性能是由电极结构决定的。本文通过计算机模拟的方式对三种典型的用于大屏幕彩色显像管电子枪的光点形貌进行了系统模拟。对各电子枪聚焦特性进行的分析和比较表明电子束形成区、主透镜结构对屏蔽中心、角部的着屏光点及不同电流下聚焦的稳定性都有较大的影响。 展开更多
关键词 聚焦 束形成区 主透镜 着屏光点 彩色显像管 电子枪
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