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基于着色器的LOD纹理混合与反走样平滑过渡关键技术研究 被引量:4
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作者 姜展 李梅 +1 位作者 孙振明 毛善君 《北京大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第1期113-122,共10页
针对场景切换时产生的LOD(level of detail)纹理突变和走样问题,提出一种基于着色器的LOD纹理混合与反走样平滑过渡算法。该算法根据三维模型和视点的距离,运用基于Alpha测试的不透明蒙版算法和加权邻帧反走样算法,在LOD间生成过渡材质... 针对场景切换时产生的LOD(level of detail)纹理突变和走样问题,提出一种基于着色器的LOD纹理混合与反走样平滑过渡算法。该算法根据三维模型和视点的距离,运用基于Alpha测试的不透明蒙版算法和加权邻帧反走样算法,在LOD间生成过渡材质,实现三维模型LOD切换的平滑过渡,不仅能够改善纹理质量,而且能够保证三维场景加载的流畅性与真实性。实验结果表明,与UnrealEngine4(UE4)自带的平滑算法相比,算法的GPU平均耗时减少8%以上,帧率提高8%以上。与现有纹理平滑过渡方法相比,该算法能够优化GPU渲染性能,稳定并提高画面帧率,保持良好的视觉效果,有效地解决LOD层级切换时的突变问题。 展开更多
关键词 纹理突变 LOD平滑过渡 Alpha测试 几何走样 着色走样 时间反走样(TAA)
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