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GaN HFET中的局域电子气和瞬态电流谱 被引量:2
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作者 薛舫时 孔月婵 +1 位作者 李忠辉 陈堂胜 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2015年第5期409-419,共11页
比较了GaN体材料和GaN HFET中陷阱的不同行为,发现后一种陷阱不能简单地用陷阱中心俘获带内电子模型来解释,由此建立起描述沟道电流的新局域电子气模型。运用这一局域电子气新概念解释了实验中观察到的各类瞬态电流谱,说明目前瞬态电流... 比较了GaN体材料和GaN HFET中陷阱的不同行为,发现后一种陷阱不能简单地用陷阱中心俘获带内电子模型来解释,由此建立起描述沟道电流的新局域电子气模型。运用这一局域电子气新概念解释了实验中观察到的各类瞬态电流谱,说明目前瞬态电流研究把高密度局域电子气误认为"陷阱"而引入的各种误解。提出了通过能带剪裁来解决GaN HFET电流崩塌和可靠性难题的新途径。 展开更多
关键词 GAN HFET的陷阱 瞬态电流谱 外沟道中的能带畸变 局域电子气 陷阱与局域电子气的相互作用 电流
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半导体量子阱材料的自由电子激光辐照效应及OTCS测试研究
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作者 邹睿 林理彬 +2 位作者 张猛 张国庆 李永贵 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期33-36,共4页
 利用低温光荧光谱(PL)和光瞬态电流谱(OTCS)研究了自由电子激光辐照对GaAs/AlGaAs多量子阱材料的光学性质以及缺陷能级的影响。用波长为8.92μm,光功率密度相应于电场强度为20kV/cm的自由电子激光辐照多量子阱60min,分析PL谱发现量子...  利用低温光荧光谱(PL)和光瞬态电流谱(OTCS)研究了自由电子激光辐照对GaAs/AlGaAs多量子阱材料的光学性质以及缺陷能级的影响。用波长为8.92μm,光功率密度相应于电场强度为20kV/cm的自由电子激光辐照多量子阱60min,分析PL谱发现量子阱特征峰(797nm)经过辐照后峰值发生红移至812nm,波形展宽,峰高降低。分析OTCS谱发现自由电子激光辐照引入了新的缺陷能级,量子阱结构发生变化,对此结果进行了讨论,并与电子辐照的情况做了比较。 展开更多
关键词 OTCS 量子阱 自由电子激光辐照 低温光荧光 红移 瞬态电流谱 半导体材料
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BiVO_4膜电极的制备及其光电化学性能 被引量:3
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作者 彭天右 柯丁宁 +2 位作者 曾鹏 张晓虎 范科 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2011年第9期2160-2166,共7页
以自制的BiVO4纳米粉制备膜电极, 采用电化学方法较系统地研究了退火温度和膜厚对BiVO4膜电极的光电化学行为和电子输运与复合的影响. 结果表明: 退火温度和膜厚对BiVO4膜电极的光电特性有显著的影响. 膜厚为6.75 μm时, BiVO4膜电极具... 以自制的BiVO4纳米粉制备膜电极, 采用电化学方法较系统地研究了退火温度和膜厚对BiVO4膜电极的光电化学行为和电子输运与复合的影响. 结果表明: 退火温度和膜厚对BiVO4膜电极的光电特性有显著的影响. 膜厚为6.75 μm时, BiVO4膜电极具有最佳的光电化学特性. 退火温度低于500 °C时, 膜电极的光电活性随着温度的升高而增强, 至500 °C时达到最大值; 此后膜电极内的体相缺陷明显增加, 导致其光电活性逐渐降低. BiVO4膜电极有良好的可见光光电转换效率, 并利用其单色光转换效率曲线计算得到BiVO4的带隙为2.36eV, 采用莫特-肖特基电化学法测得其平带电位为-0.7 V (vs Ag/AgCl). 上述结果为BiVO4光催化体系的优化提供了重要的参考. 展开更多
关键词 BiVO4膜电极 光电化学性能 电流 平带电位
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光激电流谱的测试
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作者 邵丽梅 杨威 《光学技术》 CAS CSCD 1999年第2期66-67,49,共3页
用光激瞬态电流谱OTCS(opitaltransitioncunentspectroscopy)方法对InP∶Fe进行了初步测试。目的是研究半绝缘InP∶Fe中的深能级,了解其作为光电器件、高速器件衬底的稳定性。在低... 用光激瞬态电流谱OTCS(opitaltransitioncunentspectroscopy)方法对InP∶Fe进行了初步测试。目的是研究半绝缘InP∶Fe中的深能级,了解其作为光电器件、高速器件衬底的稳定性。在低温下,用强光发现半绝缘InP∶Fe中存在两深能级,分别是ET=0.34eV的电子陷阱和ET=1.13eV的空穴陷阱。 展开更多
关键词 半导体材料 光激瞬态电流谱 特性测量
原文传递
用OTCS方法测量InP:Fe中的深能级
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作者 邵丽梅 干庆姬 杨威 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1997年第4期273-277,共5页
用光激瞬态电流谱(OTCS)方法测量半绝缘InP:Fe的深能级,研究了光强对OTCS测试的影响。在低温下,用强光测得InP:Fe中存在ET=0.34eV的电子陷阱和ET=1.13eV的空穴陷阱。光强增大,ET=0.3... 用光激瞬态电流谱(OTCS)方法测量半绝缘InP:Fe的深能级,研究了光强对OTCS测试的影响。在低温下,用强光测得InP:Fe中存在ET=0.34eV的电子陷阱和ET=1.13eV的空穴陷阱。光强增大,ET=0.34eV的电子陷阱的OTCS峰的位置向高温方向移动,不同的光强下测得的ET也不同。文章从光的强度影响深能级的填充率对ET进行了理论修正,实验上发现修正后误差大大减小了。 展开更多
关键词 半导体材料 特性测量 光激瞬态电流谱 杂质能级
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SI-GaAs单晶中深能级陷阱退火特性研究 被引量:1
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作者 谢自力 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2002年第7期10-12,17,共4页
研究了LEC-SI-GaAs单晶热处理前后深能级陷阱的变化,比较了原生晶体在不同条件的热退火后SI-GaAs单晶中深能级陷阱的特性,分析了产生变化的原因,并讨论了LEC-SI-GaAs中两个主要深能级陷阱EL2和EL6的可能构型。
关键词 深能级陷阱 退火特性 半绝缘砷化镓 热处理 光致电流
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Measurement of Deep Energy Level in InP: Fe by the Method of OTCS
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作者 SHAO Limei (Jilin Polytechnic University, Changchun 130022, CHN) YANG Wei YANG Ming YAN Ruhui (Technology Academy of Armor Force of P. L. A., Changchun 130117, CHN ) 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 1998年第2期78-83,共6页
We have measured the deep energy level of the InP: Fe which is semi -insulator through the method of OTCS. The effect of light intensity on OTCS measurement is mainly discussed. There are electron trap of E_T =0.34 eV... We have measured the deep energy level of the InP: Fe which is semi -insulator through the method of OTCS. The effect of light intensity on OTCS measurement is mainly discussed. There are electron trap of E_T =0.34 eV and hole trap of E_T = 1.13 eV in InP: Fe under the strong light and low temperature. The location of the OTCS peak of electron trap (E_T = 0.34 eV) moves towards the direction of high temperaturer, when the light intensity was increased, E_T is different under different light intensity. It is corrected in terms of theory that the stuff ratio of the deep energy level is affected by the light intensity. The experiments show that the error is decreased greatly with the correction. 展开更多
关键词 Impurity Level Measurement Optical Transient Current Spectroscopy Semiconductor Materials
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