石英微透镜阵列的制作研究

叙述了采用氩离子束刻蚀的方法制作线列长方形拱面石英微透镜阵列．所制单元石英微透镜底部的外形尺寸为（300×106）um2，平均冠高7．07μm，平均曲率半径202．19μm，平均焦距404．38μm，平均F2数为3．82，平均光焦度2．47×103屈光度，扫描电子显微镜和表面探针测试表明，所制线列石英微透镜阵列的图形整齐均匀，单元长方形拱面石英微透镜的轮廓清晰，表面光滑平整．所制微透镜阵列用于高Tc超导红外探测器阵列的实验证实，微透镜的引入可以显著改善超导探测器的光响应特性．

高有效孔径比面阵石英微透镜阵列研究

为了提高可见光CCD图像传感器的填充因子从而提高CCD的信噪比,在石英基片上制作了516×516元的微透镜阵列。本文对石英微透镜阵列的制作工艺过程进行了详细讨论。最后的测量结果表明所制作的微透镜阵列有优良的表面轮廓和较好的几何尺寸均匀性。其实测有效孔径比可达到92.8%,极大提高了微透镜阵列的聚光效率。

微透镜阵列的离子束溅射刻蚀研究

利用扫描电子显微镜（ＳＥＭ）和表面探针测试，分析了采用离子束溅射刻蚀技术制作的石英微透镜阵列器件的表面微观形貌，讨论了引起微透镜表面缺陷的原因及所采取的改善表面形貌的措施，研究了采用不同层次的光致抗蚀剂微透镜图形的固化技术后，经离子束溅射刻蚀制作出的微透镜阵列器件的表面形貌差异，定性给出了表面探针测试的适用范围，此外还介绍了对所制样品所做的几项主要的处理操作。

微细加工技术与设备

TN305 2000010690线列熔融石英微透镜阵列的光刻和氩离子束刻蚀制备=Fabrication of linear fused quartz microlensarray using photolithography and ar ion beametching[刊,中]/张新宇,易新建,赵兴荣,麦志洪,何苗（华中理工大学光电子工程系.湖北,武汉（430074））,刘鲁勤（航天部2院25所.北京（100584））//量子电子学报.—1998,15（1）.—66-73采用光刻和熔融成形法制备线列长方形拱面光致抗蚀剂微透镜图形,采用固化技术对其作重整化处理,采用氩离子（Ar+）束刻蚀有效地实现线列长方形拱面光致抗蚀剂微透镜图形阵列向熔融石英（SiO2）基片上转移。实验结果证实,光刻/氩离子束刻蚀技术适用于制备具有良好的均匀性和光学质量的单片熔融石英微透镜阵列器件,此技术对于制备与大面阵凝视焦平面成像探测器相匹配的大面阵微透镜阵列具有重要意义。图10参5（于晓光）