石英玻璃基复合材料的研究进展

石英玻璃基复合材料属于重要国防材料 ,在导弹通讯、制导和防热上具有不可取代的地位。本工作介绍了几种形式的石英玻璃基复合材料的组织结构、性能和制备工艺的研究与应用情况。

光掩膜石英玻璃基板的制造工艺概述

光掩膜石英玻璃基板是光掩膜技术中的上游产品,广泛应用于半导体和光学等领域。随着半导体器件的集成化发展,对光掩膜石英玻璃基板的技术要求也越来越高。为满足市场需求,光掩膜石英玻璃基板的制造工艺也在不断改进,包括材料石英锭的熔制、热加工和冷加工等工艺。本文对光掩膜石英玻璃基板主要的制造工艺作出探究,提出一套石英玻璃基板的生产工艺流程。该工艺流程在实际中验证了可行性,可以为光掩膜石英玻璃基板的生产与研制提供借鉴。

热压工艺对SiO_(2f)/SiO_2复合材料结构与力学性能的影响

采用真空热压烧结工艺制备了SiO2 短纤维补强增韧的SiO2 玻璃陶瓷基复合材料 ,研究了烧结温度和保温时间对其显微结构和力学性能的影响规律。结果表明 ,SiO2f/SiO2 复合材料的强度和韧性较石英玻璃有明显改善 ;延长热压保温时间、提高烧结温度 ,虽有利于材料致密化 ,但析晶量增加和纤维退化更严重 ,复合材料的强度和断裂韧性随之下降。

In-situ growth of silver nanostructure on quartz glass substrates

Silver nanostructure compact aggregates on the surface of quartz glass substrates were synthesized by small gold seeds with the assistance of poly vinypyrrolidone (PVP) and irradiation of fluorescent lamp. The formation mechanism of silver nanostructure was proposed. The results show that both the PVP and the light irradiation are the keys to in-situ growth of silver nanostructure on quartz glass substrates. The silver nanostructure of the substrates which finally grow up to 150 nm after 20 h irradiation exhibits irregular shape, and some of nanoparticles stack to form bilayer. A new broad band appears in the absorption spectra of the substrates due to the interparticle dipole?dipole coupling of surface plasmon resonance response of the triangular silver nanoplate particles, which red shifts 600?800 nm as the particles grow up. The substrates have an emission band centered at 400 nm on their fluorescence spectra, and the fluorescence intensity shrinks as the average size of the silver nanostructure increases. The strongest SERS signal of SERS-active substrate is fabricated after 16 h.

溶胶-凝胶法制备定向排列的纳米结构二氧化锆薄膜

为研究石英玻璃基板上二氧化锆薄膜的定向排列特征及相转变对其定向排列的影响 ,采用溶胶凝胶工艺在石英玻璃基体上制备了二氧化锆薄膜 ,并利用 X射线衍射仪及原子力显微镜对薄膜结构进行了分析。结果表明 ,低温二氧化锆薄膜主要由 t- Zr O2 晶粒组成 ,沿 (111)平面定向排列 ,随温度升高 ,t- Zr O2 向 m - Zr O2 转变 ,定向排列也由 t-Zr O2 的 (111)平面转向为 m - Zr O2 的 (111- )平面。与凝胶粉相比 ,二氧化锆薄膜的 t- Zr O2 → m- Zr O2 相转变温度提高10 0℃。 AFM观察显示 ,随温度升高 ,薄膜表面粗糙度增大 ,并且二氧化锆晶粒尺寸由 6 0 0℃ ,保温 1h的 7.5 nm提高至 10 0 0℃ ,保温 1h的 6 5 nm。