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东北砷化镓单晶片及抛光片项目年底竣工投产
1
《集成电路应用》
2005年第8期22-23,共2页
由黑龙江省大型民营企业锐普集团投资兴建的股份制企业——大庆佳昌科技有限公司集成电路用砷化镓单晶片及抛光片高技术产业化项目厂房建设及主体设备安装已于日前完成。据悉,项目的首期工程将于年底竣工投产。
关键词
砷化镓单晶片
抛光
片
项目
集成电路
大庆佳昌科技有限公司
东北地区
下载PDF
职称材料
非掺半绝缘LEC-GaAs晶片热处理工艺研究
被引量:
2
2
作者
周春锋
高瑞良
+1 位作者
齐德格
赖占平
《稀有金属》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第3期476-479,共4页
为了获得高质量半绝缘砷化镓单晶片 ,有必要降低微缺陷密度。开展了晶片热处理工艺的研究 ,确定了晶片热处理的温度、时间、降温速率等一系列工艺参数 ,证实了采用此项工艺能降低LEC GaAs晶片的砷沉淀密度 ,即AB EPD ,同时也保证了晶片...
为了获得高质量半绝缘砷化镓单晶片 ,有必要降低微缺陷密度。开展了晶片热处理工艺的研究 ,确定了晶片热处理的温度、时间、降温速率等一系列工艺参数 ,证实了采用此项工艺能降低LEC GaAs晶片的砷沉淀密度 ,即AB EPD ,同时也保证了晶片的电学参数不受影响。通过对晶片热处理工艺过程和结果进行分析 ,给出了晶片热处理工艺理论模型的解释。
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关键词
半导体物理学
砷
沉淀
AB微缺陷
半绝缘
砷化镓单晶片
下载PDF
职称材料
题名
东北砷化镓单晶片及抛光片项目年底竣工投产
1
出处
《集成电路应用》
2005年第8期22-23,共2页
文摘
由黑龙江省大型民营企业锐普集团投资兴建的股份制企业——大庆佳昌科技有限公司集成电路用砷化镓单晶片及抛光片高技术产业化项目厂房建设及主体设备安装已于日前完成。据悉,项目的首期工程将于年底竣工投产。
关键词
砷化镓单晶片
抛光
片
项目
集成电路
大庆佳昌科技有限公司
东北地区
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
非掺半绝缘LEC-GaAs晶片热处理工艺研究
被引量:
2
2
作者
周春锋
高瑞良
齐德格
赖占平
机构
中国电子科技集团公司第四十六研究所
出处
《稀有金属》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第3期476-479,共4页
文摘
为了获得高质量半绝缘砷化镓单晶片 ,有必要降低微缺陷密度。开展了晶片热处理工艺的研究 ,确定了晶片热处理的温度、时间、降温速率等一系列工艺参数 ,证实了采用此项工艺能降低LEC GaAs晶片的砷沉淀密度 ,即AB EPD ,同时也保证了晶片的电学参数不受影响。通过对晶片热处理工艺过程和结果进行分析 ,给出了晶片热处理工艺理论模型的解释。
关键词
半导体物理学
砷
沉淀
AB微缺陷
半绝缘
砷化镓单晶片
Keywords
semiconductor physics
As precipitation
AB microscopic defect
semi-insulating GaAs wafer
分类号
TN304.2 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
东北砷化镓单晶片及抛光片项目年底竣工投产
《集成电路应用》
2005
0
下载PDF
职称材料
2
非掺半绝缘LEC-GaAs晶片热处理工艺研究
周春锋
高瑞良
齐德格
赖占平
《稀有金属》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
2
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职称材料
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