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题名LP-MOCVD生长温度对InGaAs性能的影响
被引量:3
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作者
刘宝林
杨树人
陈佰军
王本忠
刘式墉
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机构
吉林大学电子科学系
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出处
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1993年第4期387-390,共4页
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文摘
众所周知,InGaAs在InP和GaAs二个系列材料中具有最大的载流子迁移率和最大的饱和速率,InGaAs/GaAs应变量子阱可以把GaAs的发射波长从0.83μm延伸到1.1μm,而InGaAs/InP量子阱激光器又可以实现1.1~1.8μm内任意波长发射,并且,InGaAs/InP探测器的响应波长范围为0.93μm~1.65μm,因此,它不论对高速电子器件如HBT和HEMT,还是光电子器件如激光器(LD)和探测器(PIN和APD)都具有极重要的意义。虽然利用液相外延巳生长出高质量的InGaAs/InP材料,但是,
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关键词
化学汽相沉积
砷钼镓
温度
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Keywords
LP-MOCVD
InGaAs/InP
PL
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分类号
TN304.054
[电子电信—物理电子学]
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