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30.4nmSi/C多层膜反射镜的制备与测量
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作者 刘毅楠 马月英 +3 位作者 斐舒 尼启良 胡卫兵 曹健林 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2000年第6期423-424,共2页
采用离子束溅射镀膜装置制备了一种新的材料组合Si/C多层膜 ,用于 30 4nm波段的正入射多层膜反射镜。并用软X射线反射率计测得其反射比最大值为 0 14。有效地抑制了 15 0nm处的二级衍射峰。
关键词 软X射线多层 离子束溅射 反射镜 硅/碳多层膜
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