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30.4nmSi/C多层膜反射镜的制备与测量
1
作者
刘毅楠
马月英
+3 位作者
斐舒
尼启良
胡卫兵
曹健林
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
2000年第6期423-424,共2页
采用离子束溅射镀膜装置制备了一种新的材料组合Si/C多层膜 ,用于 30 4nm波段的正入射多层膜反射镜。并用软X射线反射率计测得其反射比最大值为 0 14。有效地抑制了 15 0nm处的二级衍射峰。
关键词
软X射线
多层
膜
离子束溅射
反射镜
硅/碳多层膜
下载PDF
职称材料
题名
30.4nmSi/C多层膜反射镜的制备与测量
1
作者
刘毅楠
马月英
斐舒
尼启良
胡卫兵
曹健林
机构
中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室
出处
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
2000年第6期423-424,共2页
文摘
采用离子束溅射镀膜装置制备了一种新的材料组合Si/C多层膜 ,用于 30 4nm波段的正入射多层膜反射镜。并用软X射线反射率计测得其反射比最大值为 0 14。有效地抑制了 15 0nm处的二级衍射峰。
关键词
软X射线
多层
膜
离子束溅射
反射镜
硅/碳多层膜
Keywords
Soft X ray multi layer,Ion beam sputtering,Second order peak
分类号
TB43 [一般工业技术]
TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
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作者
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1
30.4nmSi/C多层膜反射镜的制备与测量
刘毅楠
马月英
斐舒
尼启良
胡卫兵
曹健林
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
2000
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