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Analysis and Simulation of S-shaped Waveguide in Silicon-on-insulator 被引量:1
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作者 WANGZhang-tao FANZhong-cao XIAJin-song CHENShao-wu YuJinzhong 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 2004年第2期78-81,共4页
The simulation and analysis of S-shaped waveguide bend are presented.Bend radius larger than 30 mm assures less than 0.5 dB radiation loss for a 4-μm-wide silicon-on-insulator waveguide bend with 2-μm etch depth.Int... The simulation and analysis of S-shaped waveguide bend are presented.Bend radius larger than 30 mm assures less than 0.5 dB radiation loss for a 4-μm-wide silicon-on-insulator waveguide bend with 2-μm etch depth.Intersection angle greater than 20° provides negligible crosstalk (<-30 dB) and very low insertion loss.Any reduction in bend radius and intersection angle is at the cost of the degradation of characteristics of bent waveguide and intersecting waveguide, respectively. 展开更多
关键词 BPM S形状 硅上绝缘体 波导
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Computer Aided Modeling for a Miniature Silicon-on-Insulator MEMS Piezoresistive Pressure Sensor 被引量:1
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作者 K. J. SUJA Rama KOMARAGIRI 《Photonic Sensors》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第3期202-210,共9页
silicon-on-insulator 隔膜结构是硅二氧化物和硅层的联合结构。这个工作介绍一个新方法与 silicon-on-insulator (SOI ) 的估计硅的偏转反应隔膜结构,基于爆炸压力设计途径。它也在二个不同条件下面评估隔膜的产量电压,扭动并且未扭... silicon-on-insulator 隔膜结构是硅二氧化物和硅层的联合结构。这个工作介绍一个新方法与 silicon-on-insulator (SOI ) 的估计硅的偏转反应隔膜结构,基于爆炸压力设计途径。它也在二个不同条件下面评估隔膜的产量电压,扭动并且未扭动。当时,为描述 SOI 隔膜的负担偏转在这发展并且介绍纸的新修改分析模型能精确地预言偏转与有限元素分析 CoventorWare 获得的结果相比 ? 。 展开更多
关键词 硅上绝缘体 压阻式压力传感器 计算机辅助建模 MEMS 微型 有限元分析 膜结构 组合结构
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