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光伏行业硅切片段清洁生产实例研究
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作者 张涛 郭伟东 《杭州化工》 CAS 2015年第3期34-36,共3页
以陕西某光伏硅切片企业为实例,着重对光伏行业硅切片段清洁生产的步骤和特点进行了研究,分析了其存在的问题,并提出了相应的对策。
关键词 光伏行业 硅切片 清洁生产
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硅片多线切割的温度场仿真研究 被引量:5
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作者 王建臣 邓小雷 王涛 《组合机床与自动化加工技术》 北大核心 2013年第9期32-34,38,共4页
硅片切割的温度场分布对硅片表面加工质量具有十分重要的影响。以硅材多线切割的温度场为研究对象,在分析硅片多线切割工作原理的基础上,建立了数值分析模型,充分考虑了切割发热机理以及空气与切削液的冷却作用。采用参数化编程与生死... 硅片切割的温度场分布对硅片表面加工质量具有十分重要的影响。以硅材多线切割的温度场为研究对象,在分析硅片多线切割工作原理的基础上,建立了数值分析模型,充分考虑了切割发热机理以及空气与切削液的冷却作用。采用参数化编程与生死单元技术,仿真分析了硅片切割的温度场分布情况,研究了线锯张力、硅材进给速度对硅片温度场分布的影响。仿真结果显示:硅切片的温升与线锯张力成正比关系,张力越大,温升越明显;进给速度对硅切片的温升曲线有一定的影响,但硅材在不同进给速度下的最终温度几乎相同。论文为研究硅片的切割变形机理、改善硅片表面质量等提供了一定的理论参考。 展开更多
关键词 硅切片 多线切割 线锯张力 进给速度 温度分布
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Imaging the Dissociation Dynamics of Si2+ via Two-Photon Excitation at 193 nm
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作者 Yu-jie Ma Fang-fang Li +1 位作者 Jia-xing Liu Feng-yan Wang 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 2019年第1期129-133,I0003,共6页
In the one-color experiment at 193nm, we studied the photodissociation of Si2+ ions prepared by two-photon ionization using the time-sliced ion velocity map imaging method. The Si+ imaging study shows that Si2+ dissoc... In the one-color experiment at 193nm, we studied the photodissociation of Si2+ ions prepared by two-photon ionization using the time-sliced ion velocity map imaging method. The Si+ imaging study shows that Si2+ dissociation results in two distinct channels: Si(3Pg)+Si+(2Pu) and Si(1D2)+Si+(2Pu). The main channel Si(3Pg)+Si+(2Pu)) is produced by the dissociation of the Si2+ ions in more than one energetically available excited electronic state, which are from the ionization of Si2(v=0-5). Particularly, the dissociation from the vibrationally excited Si2(v=1) shows the strongest signal. In contrast, the minor Si(1D2)+Si+(2Pu) channel is due to an avoided crossing between the two 22Πg states in the same symmetry. It has also been observed the one-photon dissociation of Si2+(X4Σg-) into Si(1D2)+Si+(2Pu) products with a large kinetic energy release. 展开更多
关键词 Slice imaging PHOTODISSOCIATION Silicon dimmer Si2 193nm
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