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题名国外硅双极分频器发展概况
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作者
武俊齐
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机构
机电部第二十四研究所
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出处
《微电子学》
CAS
CSCD
1992年第5期1-7,共7页
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文摘
本文综述了国外近十年来超高速分频器集成电路的发展概况。着重介绍了反馈分频方式的原理。并叙述了采用几种先进硅双极工艺(如SST、SICOS、BSA等)制作的反馈分频方式的分频器和主从D触发器方式的分频器。最后简单介绍了超高速分频器的应用情况。
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关键词
集成电路
分频器
硅双极工艺
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Keywords
Very high speed IC, Frequency divider, Regenerative divider, Si bipolar process
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分类号
TN772
[电子电信—电路与系统]
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题名一种1.3GHz硅双模预置分频器
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作者
王永禄
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机构
四川重庆电子工业部第
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出处
《微电子学》
CAS
CSCD
1995年第3期5-9,13,共6页
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文摘
本文介绍了一种硅双模预置分频器(÷40/42)的电路原理、电路设计、版图设计、工艺技术及研制结果。采用3μm设计规则的硅双极型pn结对通隔离工艺、薄层外延和泡发射极等ECL高速电路制作技术,双模预置分频器最高工作频率在-55℃~+125℃环境温度范围内达1300MHz以上,并且具有输入动态范围大、电源电压宽等特点。
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关键词
ECL
触发器
预置分频器
硅双极工艺
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Keywords
ECL flip-flop,Prescaler,Si bipolar process
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分类号
TN772
[电子电信—电路与系统]
TN783
[电子电信—电路与系统]
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题名一种超高速八位移位寄存器
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作者
万天才
孙微风
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机构
电子工业部第
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出处
《微电子学》
CAS
CSCD
1993年第3期17-22,共6页
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文摘
介绍了一种超高速八位移位寄存器的设计和工艺制造技术。采用单元结构设计方法进行逻辑设计、电路设计、版图设计和整体设计,用3μm双埋层对通pn结隔离ECL技术进行工艺制作,其最高工作频率达到400MHz以上,工作温度范围为-55℃~85℃,比常规的TTL或者COMS移位寄存器工作频率高40倍。
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关键词
移位寄存器
ECL电路
硅双极工艺
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Keywords
Shift register,ECL circuit,Si bipolar process,Micro-assembly
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分类号
TP332.11
[自动化与计算机技术—计算机系统结构]
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题名半导体与微电子技术
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出处
《电子科技文摘》
2000年第1期22-22,共1页
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文摘
Y99-61795 00002441998年 IEEE 双极/Bi CMOS 电路和技术会议录=1998 IEEE bipolar/Bi CMOS circuits and technologymeeting[会,英]/IEEE.—IEEE,1998.—216P.(UC)本会议录共收录论文44篇。其内容涉及:静电放电和辐照影响,逻辑设计,功率器件,各种模拟技术,SiGe 加工技术,射频电路与技术,射频用的加工工艺,通信电路,先进的硅双极工艺,双极晶体管的失真、噪声和瞬时效应,模拟和参数的提取等。Y99-61827 00002451998年 IEEE 电子器件协会会议录=1998 IEEE elec-tron devices society meeting[会,英]/IEEE.—IEEE,
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关键词
会议录
收录论文
模拟技术
特殊加工技术
技术会议
双极晶体管
逻辑设计
硅双极工艺
加工工艺
功率器件
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分类号
TN
[电子电信]
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