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硅四端型膜片式压力传感器的优化设计与分析
被引量:
1
1
作者
李乃平
刘三清
应建华
《华中理工大学学报》
CSCD
北大核心
1989年第3期63-69,共7页
本文从理论上分析了硅剪切压阻系数的择优取向,以及在矩形、方形和圆形弹性膜片上欲获得较大剪应力,电阻条的布局原则。利用本文提供的方法,对某些膜片上的四端应变电阻所进行的布局分析与Kanda用有限差分法计算出来的布局结果基本一致...
本文从理论上分析了硅剪切压阻系数的择优取向,以及在矩形、方形和圆形弹性膜片上欲获得较大剪应力,电阻条的布局原则。利用本文提供的方法,对某些膜片上的四端应变电阻所进行的布局分析与Kanda用有限差分法计算出来的布局结果基本一致。文中还提出了膜片上一些新的布局,供设计者选用。
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关键词
硅四端型
膜片式
压力传感器
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职称材料
题名
硅四端型膜片式压力传感器的优化设计与分析
被引量:
1
1
作者
李乃平
刘三清
应建华
机构
华中理工大学固体电子学系
出处
《华中理工大学学报》
CSCD
北大核心
1989年第3期63-69,共7页
基金
国家自然科学基金赞助课题
文摘
本文从理论上分析了硅剪切压阻系数的择优取向,以及在矩形、方形和圆形弹性膜片上欲获得较大剪应力,电阻条的布局原则。利用本文提供的方法,对某些膜片上的四端应变电阻所进行的布局分析与Kanda用有限差分法计算出来的布局结果基本一致。文中还提出了膜片上一些新的布局,供设计者选用。
关键词
硅四端型
膜片式
压力传感器
Keywords
Sensor
Optimal design
Shearing piezoresistance coefficient
Shearing stress
分类号
TP212 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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作者
出处
发文年
被引量
操作
1
硅四端型膜片式压力传感器的优化设计与分析
李乃平
刘三清
应建华
《华中理工大学学报》
CSCD
北大核心
1989
1
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