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硅场发射器中电子发射特性退化的机理
1
《现代显示》
1997年第2期26-30,共5页
研究了硅场发射器中电子发射特性的退化和它的机理。利用化学—机械—磨光工序,制造出三级型硅场发射器。存在一个临界偏置时间tc,在此时刻,阴级电流开始显著地降低。随着阳极电流增大,临界时间tc将缩短。在tc时间内反复测量...
研究了硅场发射器中电子发射特性的退化和它的机理。利用化学—机械—磨光工序,制造出三级型硅场发射器。存在一个临界偏置时间tc,在此时刻,阴级电流开始显著地降低。随着阳极电流增大,临界时间tc将缩短。在tc时间内反复测量发射电流,每一次测量后都完全弛豫(relexation),即使总偏置时间超过临界时间,也不出现退化。
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关键词
场
发射
电子
发射
特性
硅场发射器阵列
退化
下载PDF
职称材料
题名
硅场发射器中电子发射特性退化的机理
1
机构
韩国电子和通讯学会半导体分会
出处
《现代显示》
1997年第2期26-30,共5页
文摘
研究了硅场发射器中电子发射特性的退化和它的机理。利用化学—机械—磨光工序,制造出三级型硅场发射器。存在一个临界偏置时间tc,在此时刻,阴级电流开始显著地降低。随着阳极电流增大,临界时间tc将缩短。在tc时间内反复测量发射电流,每一次测量后都完全弛豫(relexation),即使总偏置时间超过临界时间,也不出现退化。
关键词
场
发射
电子
发射
特性
硅场发射器阵列
退化
分类号
TN103 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
硅场发射器中电子发射特性退化的机理
《现代显示》
1997
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