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硅场发射器中电子发射特性退化的机理
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《现代显示》 1997年第2期26-30,共5页
研究了硅场发射器中电子发射特性的退化和它的机理。利用化学—机械—磨光工序,制造出三级型硅场发射器。存在一个临界偏置时间tc,在此时刻,阴级电流开始显著地降低。随着阳极电流增大,临界时间tc将缩短。在tc时间内反复测量... 研究了硅场发射器中电子发射特性的退化和它的机理。利用化学—机械—磨光工序,制造出三级型硅场发射器。存在一个临界偏置时间tc,在此时刻,阴级电流开始显著地降低。随着阳极电流增大,临界时间tc将缩短。在tc时间内反复测量发射电流,每一次测量后都完全弛豫(relexation),即使总偏置时间超过临界时间,也不出现退化。 展开更多
关键词 发射 电子发射特性 硅场发射器阵列 退化
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