高铜含量中孔Cu-Si二元氧化物的合成和表征

采用 CTAB(十六烷基三甲基溴化铵 )为模板剂 ,Na2 Si O3· 1 0 H2 O为硅源 ,Cu( NH3) 4( NO3) 2 为铜源 ,在常温下成功地合成出含铜质量分数高达 2 6% ,具有中孔结构的硅基氧化铜复合材料 .较系统地研究了反应时间、温度、 p H值和铜掺入量等对产物性能的影响 .用 XRD,HRTEM,FTIR,BET,TG-DTA。