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硅基籽晶上化学气相沉积金刚石薄膜及其场发射特性
被引量:
3
1
作者
赵海峰
宋航
+4 位作者
元光
李志明
蒋红
缪国庆
金亿鑫
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第3期313-317,共5页
通过控制电泳沉积(EPD)时间,在硅基片上沉积不同密度的金刚石籽晶。再用热丝化学气相沉积(HFCVD)设备,在硅基籽晶上合成多晶金刚石薄膜。薄膜中通常含有非金刚石相碳成分。用扫描电子显微镜(SEM)和Raman光谱对样品的表面形貌和成分进行...
通过控制电泳沉积(EPD)时间,在硅基片上沉积不同密度的金刚石籽晶。再用热丝化学气相沉积(HFCVD)设备,在硅基籽晶上合成多晶金刚石薄膜。薄膜中通常含有非金刚石相碳成分。用扫描电子显微镜(SEM)和Raman光谱对样品的表面形貌和成分进行了表征,测量了样品的场发射特性。比较并分析了样品的表面形貌和非金刚石成分上的差异对金刚石薄膜场发射特性的影响。
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关键词
硅基籽晶
化学气相沉积
金刚石薄膜
场发射特性
电泳沉积
表面形貌
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职称材料
题名
硅基籽晶上化学气相沉积金刚石薄膜及其场发射特性
被引量:
3
1
作者
赵海峰
宋航
元光
李志明
蒋红
缪国庆
金亿鑫
机构
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所激发态物理重点实验室
出处
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第3期313-317,共5页
基金
国家"863"高技术基金资助项目(2001AA313080)
文摘
通过控制电泳沉积(EPD)时间,在硅基片上沉积不同密度的金刚石籽晶。再用热丝化学气相沉积(HFCVD)设备,在硅基籽晶上合成多晶金刚石薄膜。薄膜中通常含有非金刚石相碳成分。用扫描电子显微镜(SEM)和Raman光谱对样品的表面形貌和成分进行了表征,测量了样品的场发射特性。比较并分析了样品的表面形貌和非金刚石成分上的差异对金刚石薄膜场发射特性的影响。
关键词
硅基籽晶
化学气相沉积
金刚石薄膜
场发射特性
电泳沉积
表面形貌
Keywords
diamond film
field emission
seed crystal density
electrophoresis
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
O484.41 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
硅基籽晶上化学气相沉积金刚石薄膜及其场发射特性
赵海峰
宋航
元光
李志明
蒋红
缪国庆
金亿鑫
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003
3
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