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电化学湿法腐蚀法制备硅微柱阵列
被引量:
2
1
作者
李鑫
罗洁
任丁
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
北大核心
2018年第11期26-30,共5页
采用TMAH (Tetramethyl Ammonium Hydroxide)腐蚀液在P(100)硅片上制备倒棱台,进而采用电化学湿法刻蚀法制备具有微柱结构的阵列器件。借鉴N型多孔硅的形成理论,提出了微柱的形成模型,分析了微柱的形成条件,并对其主要的几何结构参数之...
采用TMAH (Tetramethyl Ammonium Hydroxide)腐蚀液在P(100)硅片上制备倒棱台,进而采用电化学湿法刻蚀法制备具有微柱结构的阵列器件。借鉴N型多孔硅的形成理论,提出了微柱的形成模型,分析了微柱的形成条件,并对其主要的几何结构参数之间的关系进行了探讨。结果表明微柱的形成与倒棱台的结构参数、孔的结构参数以及空间电荷区等因素相关。倒棱台的底面尺寸决定了微柱的结构,且倒棱台开口的大小需要大于平均孔径。微柱直径始终小于2倍的空间电荷区宽度。微柱内载流子的耗尽是微柱未被刻蚀的主要原因。
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关键词
无机非金属材料
硅微尖阵列
倒棱台
微
柱形成模型
HF阳极电化学腐蚀
TMAH各向异性湿法腐蚀
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职称材料
用化学方法制备硅场发射阵列
被引量:
3
2
作者
元光
金长春
+8 位作者
金亿鑫
宋航
荆海
朱希玲
张宝林
周天明
宁永强
蒋红
王惟彪
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第4期341-345,共5页
利用各向同性腐蚀液制备了硅微尖阵列。
关键词
真空
微
电子
场发射
硅微尖阵列
SEM
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职称材料
面阵硅场发射阵列的离子束刻蚀
被引量:
1
3
作者
张新宇
赵兴荣
+1 位作者
易新建
张智
《华中理工大学学报》
CSCD
北大核心
1998年第5期88-90,共3页
利用光刻热熔法及氩离子束刻蚀技术制作128×128元面阵硅场发射器件,采用扫描电子显微镜(SEM)和表面探针等测试手段分析所制成的面阵硅微尖阵列和硅微台(微环尖)阵列的表面微结构形貌特点.所制成的面阵硅微尖和硅微...
利用光刻热熔法及氩离子束刻蚀技术制作128×128元面阵硅场发射器件,采用扫描电子显微镜(SEM)和表面探针等测试手段分析所制成的面阵硅微尖阵列和硅微台(微环尖)阵列的表面微结构形貌特点.所制成的面阵硅微尖和硅微台(微环尖)器件的图形整齐均匀,达到了预定的各项指标的要求.实验表明,所采用的器件制作方法有较大的实用价值.
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关键词
场发射
硅微尖阵列
硅
微
台
阵列
离子束刻蚀
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职称材料
Si──FEA冷发射微阴极阵列实验研究
被引量:
1
4
作者
肖兵
杨谟华
杨中海
《电子科技大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第6期614-616,共3页
对Si—FEA冷发射微阴极阵列的微电子工艺技术制各方案及其测试观察结果进行了技术报道。已经获得了20×20/100×100硅尖锥阵列和栅压在100~400v之间50μA冷发射阳极电流。
关键词
微
阴极
阵列
硅
尖
锥
栅孔
场致发射
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职称材料
超微细加工及设备
5
《中国光学》
EI
CAS
1997年第2期93-94,共2页
TN305.7 97021357用化学方法制备硅场发射阵列=Preparation ofsilicon tips array[刊,中]/元光,金长春,金亿鑫,宋航,荆海,朱希玲,张宝林,周天明,宁永强,蒋红,王惟彪(中科院长春物理研究所.吉林,长春(130021))//发光学报.—1996,17(4).—...
TN305.7 97021357用化学方法制备硅场发射阵列=Preparation ofsilicon tips array[刊,中]/元光,金长春,金亿鑫,宋航,荆海,朱希玲,张宝林,周天明,宁永强,蒋红,王惟彪(中科院长春物理研究所.吉林,长春(130021))//发光学报.—1996,17(4).—341—345利用各向同性腐蚀液制了硅微尖阵列。并考察了各主要工艺参数对微尖形貌的影响。图6参6(赵桂云)
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关键词
场发射
阵列
硅微尖阵列
工艺参数
中科院
刻划机
长春
各向同性
分步重复投影光刻机
化学方法
光学系统
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职称材料
题名
电化学湿法腐蚀法制备硅微柱阵列
被引量:
2
1
作者
李鑫
罗洁
任丁
机构
四川大学原子核科学技术研究所
出处
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
北大核心
2018年第11期26-30,共5页
基金
国家自然科学基金青年科学基金(11005076,11305029)
文摘
采用TMAH (Tetramethyl Ammonium Hydroxide)腐蚀液在P(100)硅片上制备倒棱台,进而采用电化学湿法刻蚀法制备具有微柱结构的阵列器件。借鉴N型多孔硅的形成理论,提出了微柱的形成模型,分析了微柱的形成条件,并对其主要的几何结构参数之间的关系进行了探讨。结果表明微柱的形成与倒棱台的结构参数、孔的结构参数以及空间电荷区等因素相关。倒棱台的底面尺寸决定了微柱的结构,且倒棱台开口的大小需要大于平均孔径。微柱直径始终小于2倍的空间电荷区宽度。微柱内载流子的耗尽是微柱未被刻蚀的主要原因。
关键词
无机非金属材料
硅微尖阵列
倒棱台
微
柱形成模型
HF阳极电化学腐蚀
TMAH各向异性湿法腐蚀
Keywords
inorganic non - metallic materials
silicon micro - tip arrays
invert truncated pyramid
micro - tip formationmodel
HF anode electrochemical etching
TMAH anisotropic wet etching
分类号
TN403 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
用化学方法制备硅场发射阵列
被引量:
3
2
作者
元光
金长春
金亿鑫
宋航
荆海
朱希玲
张宝林
周天明
宁永强
蒋红
王惟彪
机构
中国科学院长春物理研究所
出处
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第4期341-345,共5页
文摘
利用各向同性腐蚀液制备了硅微尖阵列。
关键词
真空
微
电子
场发射
硅微尖阵列
SEM
Keywords
vacuum microelectronics, field emission, silicon tips array, SEM
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
TN383 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
面阵硅场发射阵列的离子束刻蚀
被引量:
1
3
作者
张新宇
赵兴荣
易新建
张智
机构
华中理工大学光电子工程系
出处
《华中理工大学学报》
CSCD
北大核心
1998年第5期88-90,共3页
基金
国家高技术研究发展计划资助项目
文摘
利用光刻热熔法及氩离子束刻蚀技术制作128×128元面阵硅场发射器件,采用扫描电子显微镜(SEM)和表面探针等测试手段分析所制成的面阵硅微尖阵列和硅微台(微环尖)阵列的表面微结构形貌特点.所制成的面阵硅微尖和硅微台(微环尖)器件的图形整齐均匀,达到了预定的各项指标的要求.实验表明,所采用的器件制作方法有较大的实用价值.
关键词
场发射
硅微尖阵列
硅
微
台
阵列
离子束刻蚀
Keywords
field emission
Si microtip arrays
Si microplatform arrays
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
Si──FEA冷发射微阴极阵列实验研究
被引量:
1
4
作者
肖兵
杨谟华
杨中海
机构
电子科技大学微电子科学与工程系
出处
《电子科技大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第6期614-616,共3页
基金
国防科工委预研基金
文摘
对Si—FEA冷发射微阴极阵列的微电子工艺技术制各方案及其测试观察结果进行了技术报道。已经获得了20×20/100×100硅尖锥阵列和栅压在100~400v之间50μA冷发射阳极电流。
关键词
微
阴极
阵列
硅
尖
锥
栅孔
场致发射
Keywords
FEA
Si tips
gate hole
field emitters
分类号
TN103 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
超微细加工及设备
5
出处
《中国光学》
EI
CAS
1997年第2期93-94,共2页
文摘
TN305.7 97021357用化学方法制备硅场发射阵列=Preparation ofsilicon tips array[刊,中]/元光,金长春,金亿鑫,宋航,荆海,朱希玲,张宝林,周天明,宁永强,蒋红,王惟彪(中科院长春物理研究所.吉林,长春(130021))//发光学报.—1996,17(4).—341—345利用各向同性腐蚀液制了硅微尖阵列。并考察了各主要工艺参数对微尖形貌的影响。图6参6(赵桂云)
关键词
场发射
阵列
硅微尖阵列
工艺参数
中科院
刻划机
长春
各向同性
分步重复投影光刻机
化学方法
光学系统
分类号
O4 [理学—物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
电化学湿法腐蚀法制备硅微柱阵列
李鑫
罗洁
任丁
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
北大核心
2018
2
下载PDF
职称材料
2
用化学方法制备硅场发射阵列
元光
金长春
金亿鑫
宋航
荆海
朱希玲
张宝林
周天明
宁永强
蒋红
王惟彪
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996
3
下载PDF
职称材料
3
面阵硅场发射阵列的离子束刻蚀
张新宇
赵兴荣
易新建
张智
《华中理工大学学报》
CSCD
北大核心
1998
1
下载PDF
职称材料
4
Si──FEA冷发射微阴极阵列实验研究
肖兵
杨谟华
杨中海
《电子科技大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996
1
下载PDF
职称材料
5
超微细加工及设备
《中国光学》
EI
CAS
1997
0
下载PDF
职称材料
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