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题名一种高隔离度视频模拟开关
被引量:1
- 1
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作者
胡永贵
张家斌
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机构
电子工业部第二十四研究所
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出处
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
1997年第5期342-345,共4页
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文摘
介绍了Π型结构的CMOS模拟开关的电路设计。采用4μm硅栅自对准技术、全离子注入浅结工艺制造出了SB804CMOS模拟开关,在30MHz的视频信号下,其隔离度高达63dB、开关时间小于50ns。
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关键词
模拟集成电路
CMOS
模拟开关
硅栅自对准
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分类号
TN431.1
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名一种双路输出低压差电源的研制
被引量:1
- 2
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作者
胡永贵
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机构
模拟集成电路国家重点实验室中国电子科技集团公司第二十四研究所
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出处
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第2期148-150,154,共4页
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文摘
文章介绍了一种CMOS双路输出低压差电源。电路设计中,采用E/DNMOS基准,用PMOS管作调整管;电路实现采用1 5μm硅栅自对准E/DCMOS工艺。该低压差电源可提供输出电流为1A的3 3V固定输出(压差为0 6V)和1A可调输出,并具有短路保护和过压保护等功能。
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关键词
CMOS
双路输出
低压差电源
E/DNMOS
硅栅自对准
PMOS管
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Keywords
Low-dropout voltage
Power regulator
E/D NMOS
Si-gate self-alignment
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分类号
TN86
[电子电信—信息与通信工程]
TN432
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名一种用于16位A/D转换器的2μm CMOS工艺
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作者
胡永贵
贺广佑
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机构
信息产业部电子第二十四研究所
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出处
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2001年第5期354-356,共3页
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文摘
介绍了一种 CMOS 1 6位 A/D转换器的工艺技术。该技术采用 2μm硅栅自对准 CMOS工艺、全离子注入和快速热退火。并分别用 P阱和双阱工艺、多晶硅栅注砷和注 BF2 制作了电路样品。两种工艺均能满足 1 6位 A/D转换器的要求 ,但
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关键词
CMOS工艺
硅栅自对准
A/D转换器
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Keywords
CMOS process
Si gate self alignment
Analog to digital converter
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分类号
TP335.1
[自动化与计算机技术—计算机系统结构]
TN792
[电子电信—电路与系统]
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题名双栅MOSFET'S的短沟道效应
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作者
方凯
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机构
辽宁大学
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出处
《微处理机》
1989年第1期42-49,共8页
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文摘
双栅 MOS 场效应晶体管(DG-MOSF-ET'S)随沟道长度的缩短而阈值电压和击穿电压等相应的降低,即出现了所谓短沟道效应。本文就是对这种特性进行分析和推导。以使对 DG-MOSFET'S 有更进一步的认识,从而达到更广泛的应用。
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关键词
沟道效应
沟道长度
击穿电压
场效应晶体管
阈值电压
硅栅自对准工艺
反型层
栅源
表面势
耗尽层
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分类号
TP332
[自动化与计算机技术—计算机系统结构]
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