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一种高隔离度视频模拟开关 被引量:1
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作者 胡永贵 张家斌 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 1997年第5期342-345,共4页
介绍了Π型结构的CMOS模拟开关的电路设计。采用4μm硅栅自对准技术、全离子注入浅结工艺制造出了SB804CMOS模拟开关,在30MHz的视频信号下,其隔离度高达63dB、开关时间小于50ns。
关键词 模拟集成电路 CMOS 模拟开关 硅栅自对准
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一种双路输出低压差电源的研制 被引量:1
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作者 胡永贵 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2004年第2期148-150,154,共4页
 文章介绍了一种CMOS双路输出低压差电源。电路设计中,采用E/DNMOS基准,用PMOS管作调整管;电路实现采用1 5μm硅栅自对准E/DCMOS工艺。该低压差电源可提供输出电流为1A的3 3V固定输出(压差为0 6V)和1A可调输出,并具有短路保护和过压保...  文章介绍了一种CMOS双路输出低压差电源。电路设计中,采用E/DNMOS基准,用PMOS管作调整管;电路实现采用1 5μm硅栅自对准E/DCMOS工艺。该低压差电源可提供输出电流为1A的3 3V固定输出(压差为0 6V)和1A可调输出,并具有短路保护和过压保护等功能。 展开更多
关键词 CMOS 双路输出 低压差电源 E/DNMOS 硅栅自对准 PMOS管
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一种用于16位A/D转换器的2μm CMOS工艺
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作者 胡永贵 贺广佑 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2001年第5期354-356,共3页
介绍了一种 CMOS 1 6位 A/D转换器的工艺技术。该技术采用 2μm硅栅自对准 CMOS工艺、全离子注入和快速热退火。并分别用 P阱和双阱工艺、多晶硅栅注砷和注 BF2 制作了电路样品。两种工艺均能满足 1 6位 A/D转换器的要求 ,但
关键词 CMOS工艺 硅栅自对准 A/D转换器
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双栅MOSFET'S的短沟道效应
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作者 方凯 《微处理机》 1989年第1期42-49,共8页
双栅 MOS 场效应晶体管(DG-MOSF-ET'S)随沟道长度的缩短而阈值电压和击穿电压等相应的降低,即出现了所谓短沟道效应。本文就是对这种特性进行分析和推导。以使对 DG-MOSFET'S 有更进一步的认识,从而达到更广泛的应用。
关键词 沟道效应 沟道长度 击穿电压 场效应晶体管 阈值电压 硅栅自对准工艺 反型层 栅源 表面势 耗尽层
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