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H_(3-x)R_xSi—X键的键离解能及硅烷基自由基生成热的计算 被引量:1
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作者 于涛 霍红梅 钮敏 《河北科技大学学报》 CAS 2005年第3期194-196,共3页
基于基团电负性用硅烷基的结构参数建立了硅烷基衍生物H3-xRxSi—X键的键离解能以及硅烷基自由基生成热的经验计算方法,利用此方法计算出了一系列H3-xRxSi—X键的键离解能,与已知的28个文献数据比较,平均偏差为4.02 kJ.mol-1,计算出来... 基于基团电负性用硅烷基的结构参数建立了硅烷基衍生物H3-xRxSi—X键的键离解能以及硅烷基自由基生成热的经验计算方法,利用此方法计算出了一系列H3-xRxSi—X键的键离解能,与已知的28个文献数据比较,平均偏差为4.02 kJ.mol-1,计算出来的烷基自由基的标准生成热与已知的4个文献值比较,平均偏差仅为0.30 kJ.mol-1。 展开更多
关键词 烷基衍生物 键离解能 硅烷基自由基 生成热 团电负性
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