半导体硅片废水处理工艺及应用研究

为研究半导体硅片废水处理工艺及具体应用,以某企业二期半导体硅片废水处理项目为案例,基于项目实际情况,阐述了半导体硅片废水处理工艺应用、重难点问题及技术措施,包括HUBF水解酸化+HFST好氧工艺(钢制罐体)、前端物化预处理、末端气浮及置换、钢罐内部聚脲防腐等主要方面,最终取得了较为理想的废水处理成效。

光伏企业硅片清洗废水处理工程实例

采用混凝沉淀—UASB—A/O处理系统—二次沉淀工艺对光伏企业硅片清洗废水进行处理,介绍了工程设计参数、UASB厌氧反应器和A/O处理单元的启动过程及处理工程运行情况。运行结果表明:出水COD、SS、分别为117、71 mg/L,去除率分别为95.4%、96.2%,达到《电池工业污染物排放标准》(GB 30484—2013)中的间接排放限值要求。该工艺运行稳定,是一种可靠的硅片清洗废水处理工艺。

MBR用于光伏硅电池有机废水处理及回用

江苏某硅业有限公司的光伏硅电池有机废水主要含有聚乙二醇(PEG)、碳化硅粉末、硅粉及少量洗涤剂废水等,其中聚乙二醇为较难生物降解物质。为使出水COD达到60 mg/L的排放要求,采用混凝沉淀/水解酸化/好氧曝气/MBR废水处理工艺。双叠平板膜的运用、合理的设计参数选择、高效的运行操作使得该处理工艺的出水水质稳定,处理效果良好,250 m3/d的MBR出水已回用于生产。