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微洁净环境中的颗粒监测
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作者 沈健 《集成电路应用》 2003年第9期71-76,共6页
微环境的出现极大地提高了半导体加工过程的洁净度。新的微环境设计原理,例如防护罩、正压强和机械臂的应用使其性能明显地优于传统的设计。安装和调校微洁净环境的过程为精确调试工艺设备提供了的机会,使之能在ISO一级或二级洁净度的... 微环境的出现极大地提高了半导体加工过程的洁净度。新的微环境设计原理,例如防护罩、正压强和机械臂的应用使其性能明显地优于传统的设计。安装和调校微洁净环境的过程为精确调试工艺设备提供了的机会,使之能在ISO一级或二级洁净度的环境中开始运行。 展开更多
关键词 微洁净环境 颗粒监测 洁净度 半导体加工 离子注入机 硅片探针台
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