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微洁净环境中的颗粒监测
1
作者
沈健
《集成电路应用》
2003年第9期71-76,共6页
微环境的出现极大地提高了半导体加工过程的洁净度。新的微环境设计原理,例如防护罩、正压强和机械臂的应用使其性能明显地优于传统的设计。安装和调校微洁净环境的过程为精确调试工艺设备提供了的机会,使之能在ISO一级或二级洁净度的...
微环境的出现极大地提高了半导体加工过程的洁净度。新的微环境设计原理,例如防护罩、正压强和机械臂的应用使其性能明显地优于传统的设计。安装和调校微洁净环境的过程为精确调试工艺设备提供了的机会,使之能在ISO一级或二级洁净度的环境中开始运行。
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关键词
微洁净环境
颗粒监测
洁净度
半导体加工
离子注入机
硅片探针台
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职称材料
题名
微洁净环境中的颗粒监测
1
作者
沈健
机构
美国颗粒测量系统公司Particle Measuring Systems
出处
《集成电路应用》
2003年第9期71-76,共6页
文摘
微环境的出现极大地提高了半导体加工过程的洁净度。新的微环境设计原理,例如防护罩、正压强和机械臂的应用使其性能明显地优于传统的设计。安装和调校微洁净环境的过程为精确调试工艺设备提供了的机会,使之能在ISO一级或二级洁净度的环境中开始运行。
关键词
微洁净环境
颗粒监测
洁净度
半导体加工
离子注入机
硅片探针台
分类号
TN305.97 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
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作者
出处
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1
微洁净环境中的颗粒监测
沈健
《集成电路应用》
2003
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