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硅片清洗原理与方法综述
1
作者
冉海涛
《科技与企业》
2013年第12期364-364,共1页
文中首先就硅片清洗原理的硅片的表面状态与洁净度问题和吸附理论进行了探讨,在硅片清洗的常用方法与技术中分析了湿法化学清洗、干法清洗技术、束流清洗技术。
关键词
硅片清洗原理
湿法化学
清洗
干法
清洗
技术
束流
清洗
技术
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职称材料
题名
硅片清洗原理与方法综述
1
作者
冉海涛
机构
保定英利新能源有限公司
出处
《科技与企业》
2013年第12期364-364,共1页
文摘
文中首先就硅片清洗原理的硅片的表面状态与洁净度问题和吸附理论进行了探讨,在硅片清洗的常用方法与技术中分析了湿法化学清洗、干法清洗技术、束流清洗技术。
关键词
硅片清洗原理
湿法化学
清洗
干法
清洗
技术
束流
清洗
技术
分类号
TK228 [动力工程及工程热物理—动力机械及工程]
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硅片清洗原理与方法综述
冉海涛
《科技与企业》
2013
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