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热氧化对p型Si薄层电阻R_s的影响
1
作者
刘秀喜
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1992年第1期41-43,45,共4页
本文通过实验表明,在p型Si上进行热氧化,要导致薄层电阻R_s的变化,变化量ΔR_s与p型Si的R_s大小、氧化速率,杂质分凝系数、杂质在Si和SiO_2中的扩散系数有关,并对控制R_s的变化提出了一定措施。
关键词
半导体器件
热氧化
硅簿膜
电阻
下载PDF
职称材料
题名
热氧化对p型Si薄层电阻R_s的影响
1
作者
刘秀喜
机构
山东师范大学半导体所
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1992年第1期41-43,45,共4页
文摘
本文通过实验表明,在p型Si上进行热氧化,要导致薄层电阻R_s的变化,变化量ΔR_s与p型Si的R_s大小、氧化速率,杂质分凝系数、杂质在Si和SiO_2中的扩散系数有关,并对控制R_s的变化提出了一定措施。
关键词
半导体器件
热氧化
硅簿膜
电阻
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
热氧化对p型Si薄层电阻R_s的影响
刘秀喜
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1992
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