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多晶硅生产中硅芯色泽异常的机理研究
1
作者
王丙军
宗冰
+3 位作者
季静佳
蔡延国
李超军
王体虎
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019年第5期1304-1308,共5页
采用HF溶液对硅芯进行腐蚀实验,利用电子探针(EPMA)和X射线光电子能谱(XPS)方法分析成品硅芯和色泽异常硅芯表面化学成分,研究硅芯色泽异常的主要机理。研究结果表明,成品硅芯表面仅含Si元素,无其他杂质元素。通过酸腐蚀EPMA和XPS分析发...
采用HF溶液对硅芯进行腐蚀实验,利用电子探针(EPMA)和X射线光电子能谱(XPS)方法分析成品硅芯和色泽异常硅芯表面化学成分,研究硅芯色泽异常的主要机理。研究结果表明,成品硅芯表面仅含Si元素,无其他杂质元素。通过酸腐蚀EPMA和XPS分析发现,色泽异常硅芯的化学成分与化学性能无明显对应关系,不同的形成机理导致硅芯的色泽不同。氢气中的甲烷在高温下形成炭黑附着在硅芯表面上。黑黄色样品的表面层成分复杂,从里到外依次为硅氧化合物、无定形硅和炭黑组成的薄膜。其中无定形硅薄膜和硅氧化合物薄膜形成的机理为还原炉内SiHCl3/SiH2Cl2热分解形成的微硅粉和残留的微量氧/水分导致。
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关键词
多晶
硅
薄膜
形成机理
硅芯色泽异常
温度
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职称材料
题名
多晶硅生产中硅芯色泽异常的机理研究
1
作者
王丙军
宗冰
季静佳
蔡延国
李超军
王体虎
机构
青海省硅材料重点实验室
亚洲硅业(青海)有限公司
青海省硅材料工程技术研究中心
出处
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019年第5期1304-1308,共5页
文摘
采用HF溶液对硅芯进行腐蚀实验,利用电子探针(EPMA)和X射线光电子能谱(XPS)方法分析成品硅芯和色泽异常硅芯表面化学成分,研究硅芯色泽异常的主要机理。研究结果表明,成品硅芯表面仅含Si元素,无其他杂质元素。通过酸腐蚀EPMA和XPS分析发现,色泽异常硅芯的化学成分与化学性能无明显对应关系,不同的形成机理导致硅芯的色泽不同。氢气中的甲烷在高温下形成炭黑附着在硅芯表面上。黑黄色样品的表面层成分复杂,从里到外依次为硅氧化合物、无定形硅和炭黑组成的薄膜。其中无定形硅薄膜和硅氧化合物薄膜形成的机理为还原炉内SiHCl3/SiH2Cl2热分解形成的微硅粉和残留的微量氧/水分导致。
关键词
多晶
硅
薄膜
形成机理
硅芯色泽异常
温度
Keywords
polysilicon
thin film
formation mechanism
color abnormal silicon core
temperature
分类号
TQ127.2 [化学工程—无机化工]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
多晶硅生产中硅芯色泽异常的机理研究
王丙军
宗冰
季静佳
蔡延国
李超军
王体虎
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019
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