扫描定点法在Si/Mo多层膜材料深度剖面分析中的应用

:用对比方式对分割成二等分的同一Si/Mo多层非晶薄膜样品分别作了RAS POINTMODE和POINTMODE的二次离子质谱深度剖面分析 ,前者是把RASMODE(扫描法 )与POINTMODE(定点法 )有效结合起来的一种方法 ,即所谓扫描 -定点法。实验证明 ,扫描 -定点法有效地克服了弹坑效应 (Cratereffects)。