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BCN薄膜的硬度和剩余应力的研究
1
作者
孙雅琴
严少平
《安徽理工大学学报(自然科学版)》
CAS
2005年第4期91-93,共3页
类金刚石结构的立方“BCN”材料由于兼有金刚石和立方氮化硼超硬、低摩擦的优点, 如有低摩抗磨、高的热稳定性和化学稳定性,并克服了它们的缺点,因而BCN薄膜材料被作为耐磨保护层,在电学、光学方面的性能也得到广泛应用。应用反应磁控...
类金刚石结构的立方“BCN”材料由于兼有金刚石和立方氮化硼超硬、低摩擦的优点, 如有低摩抗磨、高的热稳定性和化学稳定性,并克服了它们的缺点,因而BCN薄膜材料被作为耐磨保护层,在电学、光学方面的性能也得到广泛应用。应用反应磁控溅射法将高质量的BCN 薄膜沉淀在硅基底上,通过用微压痕测量和弯曲技术研究了他们硬度和剩余应力,发现施于薄膜沉淀物上的偏压对其硬度和剩余应力均有重要影响。
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关键词
射频磁控溅射
BCN薄膜
硬度和剩余应力
偏压
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职称材料
题名
BCN薄膜的硬度和剩余应力的研究
1
作者
孙雅琴
严少平
机构
安徽理工大学数理系
出处
《安徽理工大学学报(自然科学版)》
CAS
2005年第4期91-93,共3页
文摘
类金刚石结构的立方“BCN”材料由于兼有金刚石和立方氮化硼超硬、低摩擦的优点, 如有低摩抗磨、高的热稳定性和化学稳定性,并克服了它们的缺点,因而BCN薄膜材料被作为耐磨保护层,在电学、光学方面的性能也得到广泛应用。应用反应磁控溅射法将高质量的BCN 薄膜沉淀在硅基底上,通过用微压痕测量和弯曲技术研究了他们硬度和剩余应力,发现施于薄膜沉淀物上的偏压对其硬度和剩余应力均有重要影响。
关键词
射频磁控溅射
BCN薄膜
硬度和剩余应力
偏压
Keywords
reactive magnetron sputtering
boron nitride carbon thin films
the hardness and residual stress
bias voltage
分类号
TB43 [一般工业技术]
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作者
出处
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1
BCN薄膜的硬度和剩余应力的研究
孙雅琴
严少平
《安徽理工大学学报(自然科学版)》
CAS
2005
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