制备工艺对磁控溅射Mo-N薄膜微结构和性能的影响

采用射频磁控溅射法,研究靶功率、氩氮比对Mo-N薄膜相结构、显微硬度和摩擦性能的影响。利用X射线衍射仪、纳米压痕仪、摩擦磨损测试仪和扫描电子显微镜对薄膜的成分、结构和性能进行表征。研究表明:靶功率对Mo-N薄膜相结构、硬度和摩擦性能的影响不大;随氩氮比的降低,薄膜相结构由单一的立方γ-Mo2N转变为立方γ-Mo2N与六方δ-MoN两相共存,硬度发生大幅下降,薄膜平均摩擦系数升高。